光开关制造技术

本发明专利技术公开了一种光开关，其可以方便地制得并且几乎不产生光损失。一活动电极板通过挠性梁状元件以其间预定的间隔与固定电极板平行地设置，至少两个反射镜设置在活动电极板的表面上，并且至少三个Ｖ形凹槽用于固定光纤，上述活动电极板、反射镜和Ｖ形凹槽通过各向异性蚀刻同时形成于其表面为（１００）晶面的单晶硅衬底上。两个相对的反射镜布置为其镜面形成直角，而两个平行的Ｖ形凹槽形成为以相对于这些镜面的４５°的角度彼此相对。输出侧和输入侧光纤分别容纳并固定于两个Ｖ形凹槽的一个和另一个中。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光开关，其用于改变光信号的光路，并且特别适合应用于2×2光开关，该2×2光开关构造为具有两个安装于其上的输出侧光纤和两个安装于其上的输入侧光纤，并且能够同时地将由两个输出侧光纤分别射出的光信号输入至对应的输入侧光纤中，其中从每个该输出侧光纤射出光信号，而每个该输入侧光纤接受入射于其上的光信号。
技术介绍
作为示例，2000年1月23至27日，在日本宫崎举行的第十三届IEEE国际微机电系统会议(MEMS-2000)中，Philippe Helin等人发表了名为“SELFALIGNED VERTICAL MIRRORS AND V-GROOVES APPLIED TO ASELF-LATCHING MATRIX SWITCH FOR OPTICAL NETWORKS(用于光网的自锁矩阵开关中采用的自对准垂直反射镜及V形凹槽)”的论文，其中介绍了一种技术，若对其表面为(100)晶面的单晶硅衬底进行方向依赖性湿法蚀刻或化学各向异性湿法蚀刻，则可以同时制得一薄板状或片状反射镜和四个V形凹槽，该薄板状或片状反射镜由蚀刻过的硅衬底竖起并与其构成整体，而该四个V形凹槽在硅衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光开关，包括：衬底；固定板状电极；活动板状电极，利用与所述衬底连接的挠性梁状元件、平行于所述固定板状电极地安装，其中活动板状电极与固定板状电极之间有预定间隔；多个反射镜，形成在所述活动板状电极的表面上；　 　多根光纤，分别定位并固定于沿着彼此平行并通过该些反射镜的多条直线形成在衬底上的多个Ｖ形凹槽中；以及其中，通过在固定板状电极与活动板状电极之间施加电压，活动板状电极和反射镜一起朝向固定板状电极移动，由此开关用于入射光信号的光路， 并且所述光开关的特征在于：衬底和活动板状电极中的每一个都包括表面为（１００）...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-8-10 243582/2001限定的本发明范围的改进、替换、改动和/或辅助的改善。权利要求1.一种光开关，包括单晶硅衬底，其表面具有(100)晶面；固定板状电极；活动板状电极，由所述单晶硅衬底的一部分构成；挠性梁状元件，其由所述单晶硅衬底的一部分构成并支撑所述活动板状电极以进行垂直移动，并平行于所述固定板状电极，其中所述挠性梁状元件与固定板状电极之间有预定间隔；两个反射镜，每个所述反射镜由所述单晶硅衬底的一部分构成并且包括均为(100)晶面的两个垂直晶面，所述两个垂直晶面彼此垂直，其中所述垂直晶面涂覆有金属层，所述金属层具有足以形成镜面的反射率，并且两个所述反射镜一体地形成在所述活动板状电极的表面上，使得它们彼此相对并且之间具有间隙，一个反射镜的两个垂直晶面的每个与另一个反射镜的相对垂直晶面形成直角；四个V形凹槽，沿着彼此平行地通过所述两个反射镜的两条直线形成在所述单晶硅衬底上，其中所述四个V形凹槽中的两个沿着一条直线形成使得每个凹槽与一个反射镜的相应垂直晶面对齐，其余两个V形凹槽沿着另一条直线形成使得每个凹槽与另一个反射镜的相应垂直晶面对齐；四根光纤，分别定位并固定于对应的四个V形凹槽中，其中所述四根光纤的每根与所述两个反射镜的相应垂直晶面对齐；以及其中，通过在固定板状电极与活动板状电极之间施加电压，活动板...

【专利技术属性】
技术研发人员：则松俊英，
申请(专利权)人：日本航空电子工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]