【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种由超高指数对比度材料制成的高集成光波电路。本专利技术特别涉及光学开关阵列及其构造方法。
技术介绍
基于交叉连接开关阵列的平面光波电路在本领域中是公知的。Okuno等人在ECOC，4p.83(1994)公开了一种利用了硅基平面光波电路的严格无阻塞16×16热光矩阵开关。Goth等人在J.Lightwave Tech.，19，p.371(2001)公开了一种利用了在6英寸薄片上的硅基平面光波电路的低损耗、高消光系数的严格无阻塞16×16热光矩阵开关。Okuno等人和Goth等人的开关阵列是基于Mach-Zehnder干涉仪结构中的热—光效应。通过硅基片上的硅石而实现的开关矩阵的尺寸由在硅石中经常产生的折射率对比度来限制，该对比度大约是4％左右。Rabbering等人在Proc.ECOC 27，PD-78(2001)公开了一种利用1×2Y支路或数字光学开关结构中的热—光效应的聚合16×16数字光学开关矩阵。Eldada在Proc.SPIE 5225，49(2003)公开了一种平面聚合波导技术平台，其特征在于，在热光设备中的低损耗和高消光以及低能量消...
【技术保护点】
一种平面开关矩阵，包括波导层和电极层，所述波导层包括多个１×２Ｙ支路热光数字光学开关，每一个所述１×２Ｙ支路包括掩埋信道波导，该掩埋信道波导具有的折射率对比度大于５％。所述电极层包括多个电极，每一个电极设置在所述掩埋 信道波导的覆层上，因此每一Ｙ支路设置这样两个电极。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：L埃尔达达，F朱尼基罗，
申请(专利权)人：纳幕尔杜邦公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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