反射体、反射体的用途以及反射体的制造方法技术

本发明专利技术提供了一种反射体，其具有高反射率，在该反射体中使用有以选自银、铝的金属作为主体的金属层。根据本发明专利技术提供的反射体其结构是，在高分子基体上积层高折射率层、低折射率层、和以银或铝作为主体的金属层，通过使用一种能使构成高分子基体表面和内部的ＸＰＳ可测定的原子大致相同的高分子基体，则可以得到能实现反射率比以往技术更高的反射体。另外，该反射体可以使用于反射器、导光板下反射体、背照装置和液晶显示装置。本发明专利技术还提供了该反射体的制造方法以及使用该反射体的反射器、导光板下反射体、背照装置、和液晶显示装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在高分子基体上积层有选白银、铝的金属的反射体。更详细的说，本专利技术涉及具有下述构造的反射体高分子基体、高折射率层、低折射率层、和以银或铝作为主体的金属层。本专利技术还涉及使用该反射体的反射器、导光板下反射体、背照装置以及液晶显示装置。
技术介绍
近年来，作为反射体使用银或铝的薄膜，被使用于以液晶显示装置背照部的灯泡反射器为中心的萤光灯的反射伞等。其包括由银或铝薄膜层/粘合层/铝板形成的反射板、或由银或铝薄膜层/白涂层/粘合层/铝蒸镀层/高分子膜/白涂层形成的所谓反射片，它们被揭示在例如下述文献中日本专利2503160号公报、特开平7-32537号公报、特开2002-116313号、特开2000-221311号公报等。最近，随着液晶显示装置的高像素数化，要求提高背照的亮度。其中，用于提高背照亮度的方法的例如可举出，使用可以使来自光源的光无剩地利用的高反射率的反射体。现在优选使用具有银薄膜层的反射体，但是从市场上来说，需求有更高反射率的反射体。银成为单膜时具有高反射率，但是因为银的价格高所以会有成本方面的问题。因此代替银，而在液晶显示装置的背照部的灯泡反射器中使用采用了价格较便宜的铝薄膜的反射体。但是因为铝的反射率比银低，所以因上述的理由而要求使用有铝薄膜层的反射体的反射率提高。当在金属层上以适当的厚度积层低折射率层和高折射率层时，理论上可以获得增反射膜，这是公知的。该增反射膜与金属单体进行比较时，因为可以获得高反射率的反射体，所以被认为可以响应上述的市场要求。该增反射膜的基板使用以往的玻璃。例如作为激光用反射体，其例子有特开昭61-185986号公报或特开平1-76788号公报等所揭示的。但是在这些以玻璃作为基板的情况下，存在不能使反射体弯曲这样的加工性问题，不能滚动的制造这样的生产性问题。为了解决这种问题，需要使基板为高分子膜的增反射膜。使用有高分子基体的增反射膜，例如，被揭示在日本专利特开平11-2707号公报或特开2002-55213号公报等中，但是这类反射体的反射率提高效果比较小，目前需求具有更高反射率的反射体。
技术实现思路
本专利技术人等发现，与基板使用玻璃的增反射膜的情况比较，使用有高分子基体的增反射膜，也会有反射率降低1％或更多的现象。因此，本专利技术作为课题研究的是提供一种即使采用高分子基体，反射率也极高的反射体，还提供一种使用该反射体的各种制品。本专利技术人等为了解决上述的问题而进行了刻苦的研究。其结果发现，银、铝单层膜即使使用高分子基体反射率也不会降低，该问题是增反射膜特有的问题，更惊奇的发现，高分子基体表面的原子组成和高分子基体的原子组成，对上述的增反射性能会有很大的影响。另外，亦发现了可以解决上述问题的高分子基体的组成和实现其的手段，因而完成了本专利技术。即本专利技术是一种反射体，其特征是具有积层结构，该积层结构至少含有高折射率层(A)，低折射率层(B)，以选自银、铝的金属作为主体的金属层(C)，以及高分子基体(D)；(A)层、(B)层、(C)层以(A)/(B)/(C)的顺序积层；高分子基体(D)满足下述(I)的条件(I)在距高分子基体(D)的反射层侧深度0～10nm处以XPS测定观测到的原子(A1)(但是排除金属)中，所含的与在距高分子基体(D)的反射层侧深度50nm～10μm处以XPS测定观测到的原子(A2)(但是排除金属)相同的原子的比例(Rn)为98.0atom％或其以上。依照本专利技术可以获得反射率非常高的反射体。另外，高分子基体(D)优选为高分子膜。采用高分子膜，可以提高反射体的加工性和生产性。另外，本专利技术是使用上述反射体的反射器。依照本专利技术，可以获得反射率极高的反射器，可以得到高亮度显示装置，和节能型显示装置等。另外，本专利技术是使用有上述反射体的导光板下反射体。依照本专利技术，可以获得反射率极高的导光板下反射体，可以得到高亮度显示装置，和节能型显示装置等。另外，本专利技术是使用上述反射体的背照装置。依照本专利技术，可以得到高亮度背照装置，和节能型背照装置等。另外，本专利技术是使用有上述反射体的液晶显示装置。依照本专利技术，可以得到高亮度液晶显示装置，和节能型液晶显示装置等。另外，本专利技术是一种反射体的制造方法，其特征是在满足下述(II)的条件的高分子基体(D1)上，形成反射层具有使高折射率层(A)、低折射率层(B)和以选自银、铝的金属作为主体的金属层(C)以(A)/(B)/(C)顺序积层的积层结构(II)在形成高分子基体(D1)的反射层的表面以XPS测定观测到的原子(A11)(但是排除金属)中，所含的与在距该高分子基体(D1)的表面的反射层侧深度50nm～10μm处以XPS测定观测到的原子(A21)(但是排除金属)相同的原子的比例(Rn1)为98.0atom％或其以上。上述的高分子基体(D1)优选是使高分子基体与液体接触处理过的高分子基体(D2)。依照本专利技术，由于可以提高增反射效果，所以可以更有效地制造反射率极高的反射体。附图说明图1是表示本专利技术的反射体的实例的截面图之一。图2是表示本专利技术的反射体的实例的截面图之二。图3是表示本专利技术的反射体的实例的截面图之三。图4是表示本专利技术的反射器的实例的截面图之一。图5是表示本专利技术的反射器的实例的截面图之二。图6是本专利技术的反射器被成形加工后的灯泡反射器一个实例。图7是本专利技术的灯泡反射器的截面结构的实例之一。图8是本专利技术的灯泡反射器的截面结构的实例之二。图9是被安装在侧照型背照单元的本专利技术的灯泡反射器的一个实例。图10是本专利技术的导光板下反射体的截面图的实例。具体实施例方式下面详细的说明本专利技术。本专利技术的反射体具有高分子基体(D)和反射层的积层结构，反射层具有高折射率层(A)、低折射率层(B)和以选自银、铝的金属作为主体的金属层(C)以(A)/(B)/(C)的顺序积层的积层结构。(高折射率层(A))本专利技术中的高折射率是指折射率在1.70～4.00。但是，一般使用的高折射率层的折射率在2.00～3.0。此处的折射率可以用偏振光椭圆率测量仪测定。本专利技术的高折射率层(A)优选使用氧化钛、硫化锌、氧化铈、氧化铟、氧化钕、氧化锡、氧化钇、氧化铌、氧化铋、氧化铟和氧化锡的合金、氧化铟和氧化铈的合金等，但是并没有特别的限定，无机物和有机物均可使用。(低折射率层(B))本专利技术的低折射率是指折射率在1.20～1.80。但是，一般使用的低折射率层的折射率是1.30～1.60。此处的折射率可以用偏振光椭圆率测量仪测定。本专利技术的低折射率层(B)优选使用氧化硅物、氟化钙、氟化钠化合物、氟化锂、氟化镁、氟化镧、氟化钕、氧化铝、氟化铈等，但是并没有特别的限定，无机物和有机物均可使用。(以选自银、铝的金属作为主体的金属层)以选自银、铝的金属作为主体的金属层(C)，优选使用银或铝单体，或以银或铝作为主体的合金。银或铝单体优选其纯度为100％，但是实际上会稍微含有氧或硫磺等的杂原子或其它金属。因此，在本专利技术中将银或铝单体定义为纯度超过99.99质量％的金属。另一方面，这些以银或铝作为主体的合金，例如可以含有金、铜、镍、铁、钴、钨、钼、钽、铬、铟、锰、钛、钯、钕、镉、锑、锡、锌、铌、铋等金属。上述的银或铝中其他金属等的比例在考虑到反射率时，最佳为0.01质量％～20.0质量％。杂质含量只要在此范围内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射体，其特征是，具有积层结构，该积层结构至少含有高折射率层（Ａ），低折射率层（Ｂ），以选自银、铝的金属作为主体的金属层（Ｃ），和高分子基体（Ｄ），其中，（Ａ）层、（Ｂ）层、（Ｃ）层以（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）的顺序积层，该高分子基体（Ｄ）满足下述（Ｉ）的条件：（Ｉ）在距高分子基体（Ｄ）的反射层侧深度０～１０ｎｍ处以ＸＰＳ测定观测到的原子（Ａ１）（但排除金属）中，所含的与在距高分子基体（Ｄ）的反射层侧深度５０ｎｍ～１０μｍ处以ＸＰＳ测定观测到的原子（Ａ２）（但排除金属 ）相同的原子的比例（Ｒｎ）为９８．０ａｔｏｍ％或其以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：岛田幸一，小池胜彦，福田伸，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]