基于羟基染料/无机复合的非线性光学聚合物及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种基于羟基染料／无机复合的非线性光学聚合物及制备方法，将Ｓｏｌ－Ｇｅｌ法应用于非线性光学聚合物的制备，能在低于有机生色团的分解温度下，将无机玻璃与有机生色团进行掺杂或键合制备有机／无机复合非线性光学聚合物，通过无机玻璃的刚性无定型三维结构和优良的高温稳定性来抑制有机非线性光学生色团的取向松弛，提高非线性光学聚合物的高温稳定性。这种方法制备的聚合物具有良好的高温稳定性、可突破溶解度对有机生色团在复合材料中含量的限制、更易于成膜，有利于器件化。本发明专利技术的基于羟基染料／无机复合的非线性光学聚合物可应用于光通讯、光电子学和光信息处理等领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于有机/无机复合功能高分子材料领域，尤其涉及一种。
技术介绍
随着光通讯、光电子学和光信息处理等实用领域的飞速发展，高非线性光学活性材料在这些领域中的应用前景得到越来越广泛的重视。目前开发出来的可用于光信息存储、光信号处理及光纤通讯的非线性光学材料品种繁多，但多数材料(无机晶体、多量子阱和液晶等)都难以满足光电子器件高容量、高速度、高密度、高频宽以及多功能性、可加工性等一系列关键要求。近年来有机化合物和高聚物非线性光学材料的研究日益受到重视，与无机化合物相比，有机化合物和高聚物具有大得多的非线性光学效应和电光效应；透光波长范围宽(200nm～2000nm)；本征开关时间短(可达10-14s)；光学损伤阈值高；加工性能好；另外，还可以通过人工“剪裁”，改性其主体骨架或侧链来满足对材料多功能性的要求，其中高聚物尤以易加工成薄膜、纤维等优势展现出极大的应用前景。目前高聚物的x(2)值已大体接近实用化要求(10-7esu)，但要真正实用化还存在一些根本性的缺陷首先是高温稳定性差，聚合物本征的高温不稳定性和力学松弛极大地限制了它在高温环境下的使用；其次强极性的发色团分子在高浓度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于羟基染料／无机复合的非线性光学聚合物，其特征在于结构式为：＊＊＊其中Ａ为不存在或－Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ］－或－ＮＲ－Ｃ↓［ｎ］Ｈ↓［２ｎ］－；Ｂ为－ＣＮ，－ＮＯ↓［２］，－ＣＦ↓［３］，－ＳＯ↓［２］Ｒ，－Ｒ，－ＣＨ ＝ＣＨ－，－Ｎ＝Ｎ－，－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－，－ＣＨ＝Ｎ－；当Ｂ为－ＣＮ，－ＮＯ↓［２］，－ＣＦ↓［３］，－ＳＯ↓［２］Ｒ，－Ｒ时，Ｄ不存在；当Ｂ为－ＣＨ＝ＣＨ－，－Ｎ＝Ｎ－，－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－，－ＣＨ＝Ｎ－时，Ｄ为－Ｈ，－ＣＮ，－ＮＯ↓［２］，－ＣＦ↓［３］，－ＳＯ↓［２］Ｒ，－Ｒ，芳环，稠芳环，杂环，杂稠芳环，取代的芳环，取代的稠环，...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：奚红霞，李忠，夏启斌，梁兆熙，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：81[中国|广州]