【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及抗反射膜。更特别地，本专利技术涉及含有二氧化硅颗粒和至少一种粘合剂化合物的抗反射膜，其中二氧化硅颗粒通过至少一种粘合剂化合物粘接在一起，并且其中抗反射膜的二氧化硅颗粒含量为30重量％或更低，算术平均表面粗糙度(Ra)不高于2纳米，且表面硅原子含量为10原子％或更高。本专利技术的抗反射膜不仅表现出优异的抗反射性能，而且在机械强度和抗磨性方面具有优异的性能。因此，本专利技术的抗反射膜非常有利于覆盖各种光学基材(例如眼镜透镜和显示屏)。
技术介绍
传统上，作为覆盖光学部件、眼镜的透镜、显示屏等的抗反射膜，已知的有具有单层结构的抗反射膜和具有多层结构的抗反射膜。具有单层结构或双层结构的抗反射膜不利地具有高的反射率。因此，使用具有层积结构的抗反射膜已经被认为是更合意的，该层积结构由三层或更多具有不同折射率的不同层构成。然而，当通过任何常规方法，例如真空沉淀和浸涂法制造这种由三层或更多不同层构成的抗反射膜时，产生的不利之处在于制造过程麻烦且生产率低。因此，已经对具有单层结构或双层结构的抗反射膜进行了研究，而且已经发现，当抗反射膜符合下述条件时，可以降低这种单...
【技术保护点】
一种含有二氧化硅颗粒和至少一种粘合剂化合物的抗反射膜，其中所述二氧化硅颗粒通过所述至少一种粘合剂化合物粘接在一起，所述抗反射膜具有如下特征（ａ）到（ｃ）：（ａ）二氧化硅颗粒含量为抗反射膜重量的３０重量％或更高，（ｂ） 算术平均表面粗糙度（Ｒａ）不高于２纳米，且（ｃ）在通过Ｘ射线光电子能谱法（ＸＰＳ）测量该抗反射膜表面时，其硅原子含量为１０原子％或更高。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：大桥寿彦，井冈崇明，
申请(专利权)人：旭化成株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。