光纤处理装置以及处理方法制造方法及图纸

一种能够缩短处理容器内的环境的利用惰性气体的置换及重氢的填充所需要的时间，且能够抑制高价的重氢的使用量的光纤处理装置以及处理方法。其特征在于：多数个光纤处理容器以配管建立空间连结，且各处理容器的处理室由能够收纳个以上的卷绕有被处理纤维的绕线管的可密闭室构成，并向该处理室内供给处理气体，对光纤进行气体处理；处理气体使用重氢或含有重氢的气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术关于一种光纤的气体处理，特别是为了提高光纤的耐氢特性所进行的气体处理，具体地说，是关于利用含有重氢的气体所进行的。在承认加入参照文献的指定国家，将下述申请中所记述的内容利用参考方式加入本申请案内容中，并形成本申请的记述的一部分。日本专利申请的特愿2003-271859号申请日平成15年7月8日
技术介绍
在利用光纤的传送路中使用最多的，为在1310nm附近具有零分散波长的单模态光纤。在习知技术中，该光纤用于1310nm的信号光的传送，但最近因分散补偿技术的进步等，也可用于传送其他波长的信号光。近年，为了以低成本应对所要求的传送容量增加，开发有一种CWDM(Coarse Wavelength Dvision Multiplexing；低密度波长多重分割)技术。在该传送技术中，藉由将波长间隔扩大到25nm左右，即使使用廉价的光源，也不会在各信号波长间产生干扰。为了利用该技术由光纤传送大量的信号光，要求可使用的波段宽，但在习知的单模态光纤中，于1383nm附近具有因光纤中的OH基造成的吸收损失峰值(以下只称作OH峰值)，不能利用该波段。为了使其能够使用，开发了一种低水分光纤，并在ITU-T G652table C中被确定为国际规格。在这种光纤中，要求除了初期的OH峰值小以外，在进行利用氢的老化之后其峰值还是小。因此，作为提高光纤的耐氢性的一个方法，有一种将光纤由重氢进行处理的方法。该方法为利用了重氢D所具有的一个特征的方法，即尽管与光纤中的缺陷，与氢H同样地进行反应，但由反应所产生的OD基与OH基不同，不形成在作为信号光使用的波长区域成为问题这样的吸收损失峰值(参照专利文献1、2、3)。专利文献1日本专利早期公开的特开昭60-90852号公报专利文献2日本专利早期公开的特开平7-277770号公报专利文献3日本专利早期公开的特开2000-148450号公报上述这种利用重氢的光纤处理藉由将光纤放入可密闭的容器中，并使容器内形成含有重氢的气体介质，且放置一定时间而进行。由于重氢和氢同样为可燃性气体，所以需要在充满含有重氢的气体介质之前，将容器内的气体介质以氮等惰性气体等置换到不危险的程度。在习知技术中，为了处理大量的光纤而使处理容器大型化，但当容器大型化后，在容器内的利用惰性气体的置换、含有重氢的气体介质的填充方面需要时间。图5所示为习知的装置，该装置藉由在多数个搁板上并列放置多个卷绕有被处理纤维的绕线管，从而可一次处理大量的光纤。但是，存在即使在处理少量光纤的情况下，也需要与处理大量光纤的场合等量的重氢、只能相同的时间等问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种鉴于上述课题而形成的，能够缩短处理容器内的气体介质的利用惰性气体的置换及重氢的填充所需要的时间，且能够抑制高价的重氢的使用量的。本专利技术的光纤处理装置的特征在于多数个光纤处理容器以配管建立空间连结，且各处理容器具有可密闭处理室，其能够收纳1个以上的卷绕有被处理纤维的绕线管，并向该处理室内供给处理气体，对光纤进行气体处理；处理气体使用重氢或含有重氢的气体。在上述光纤处理装置中，处理容器也可将多数个绕线管，沿卷绕光纤的轴方向，排成一列进行收纳。另外，在上述光纤处理装置中，处理容器的处理室中的与绕线管排列方向垂直的断面，也可与绕线管中的该方向的垂直断面大致相同大小。在上述光纤处理装置中，处理容器也可具有透明的窗，可从外部观察确认处理室内是否收纳有绕线管。另外，在上述光纤处理装置中，窗也可沿着与处理容器的绕线管并列方向，呈长形配置。上述光纤处理装置也可还设置有检测部，对处理容器的处理室中是否收纳有绕线管进行检测。另外，在上述光纤处理装置中，检测部也可包括用于对处理容器的质量进行测量的质量计。本专利技术的处理容器最好采用成管状并在其一端设有可开关的门，并使断面形状为圆形或与其类似的形状，且在处理容器的处理室内具有可滑动的拖盘的构成。各处理容器最好采用由可利用真空泵排气的配管进行连接，并设有阀门，可将多数个处理容器中的一部分与其它的处理容器及排气系统自如地切断·连接而构成，而且还包括对各处理容器中的光纤气体处理进行一体地控制、管理的系统的构成。另外，本专利技术的光纤处理方法的特征在于采用上述处理装置。另外，上述的专利技术的概要并未列举本专利技术的所有必要特征，这些特征群的子集也可还成为专利技术。如利用本专利技术的光纤处理装置及处理方法，可对应卷绕有被处理纤维的绕线管的数目，使多数个处理容器单独或适当多个组合而进行气体处理。气体处理所需的时间也可缩短，且重氢的使用量也可减少，对处理成本的降低有较大帮助。另外，能够对各处理容器中的光纤气体处理进行一元的控制、管理，使必要的工作人员的减员成为可能。为让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。附图说明图1所示为使多数个处理容器利用配管建立空间连结的本专利技术的光纤处理装置的一个例子的说明图。图2所示为卷绕有被处理纤维的绕线管的一个例子的斜视图。图3所示为从处理容器将载置有多数个绕线管的拖盘取出放入的状态的概略斜视图。图4所示为利用本专利技术的处理容器的15系列配置例子的概略斜视图。图5所示为习知的光纤处理装置的概略斜视图。1处理容器2阀门3排气用真空泵4绕线管5光纤6拖盘7门 10窗具体实施方式作为锐意研讨的结果，本专利技术藉由将分别可收纳少数的绕线管的多数个独立的处理容器利用配管建立空间连接，并配置阀门而形成自如切断·连接的构成，从而可使处理容器单独或多个组合，形成与被处理纤维的数量相适应的处理容器构成。下面，根据实施例具体地进行说明。实施例1图1所示为利用本专利技术的实施例的光纤处理装置。在该处理装置中，多数个筒状的处理容器1利用配管建立空间连接。各处理装置1以可单独且一元地对气体介质进行控制·管理的形态而进行配管，且在配管的路径上，为了控制处理容器内的气体介质而设置有阀门2。在配管上，为了通过空气源、流量控制器(MFC)效率良好地进行重氢D2源及氮N2源以及处理容器内的排气·气体的置换，而连接有排气用真空泵3。图2所示为收容容器1内所收纳的绕线管4。光纤5如图2所示，卷绕在绕线管4上。绕线管4中的与卷绕光纤5的轴方向垂直的断面的外径为例如340mm。图3所示为处理容器1。处理容器1具有不锈刚等金属制的形成中空管状的处理室。处理容器1还具有用于开关处理室的门7及用于保持多数个绕线管4的拖盘6。绕线管4如图3所示，以载置于拖盘6上的状态，被收纳于处理容器1的处理室内，并利用门7的开关而滑动式地取出放入。在这种情况下，处理容器1将多数个绕线管4沿卷绕光纤5的轴方向排成一列进行收纳。处理容器具有例如可将最多10个的绕线管4排成一列进行收纳的大小。处理容器1的形状藉由使其断面为圆形或与其接近的多角形，可以比较少量的材料、薄的壁材使利用真空泵的排气成为可能，且尽可能地减少绕线管4周围的不必要的空间。处理容器1的处理室中的与排列绕线管4的方向垂直的断面，与绕线管4中的与该方向垂直的断面具有大致相同的尺寸。例如，在绕线管4的外径为340mm的情况下，使处理室的断面的内径为400mm。另外，藉由采用设置多数个可收纳数个单位的处理容器1，并以配管进行连接的式样，从而与可处理相同数目的绕线管4的习知本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤处理装置，其特征在于：多数个光纤处理容器以配管建立空间连结，且各该些处理容器具有一可密闭室处理室，其由能够收纳１个以上的卷绕有被处理纤维的绕线管，并向该处理室内供给一处理气体，对该些光纤进行气体处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上大，乙坂哲也，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]