用于形成高质量光学涂层的高速沉积制造技术

高速沉积方法包括从产物流沉积粉末涂层。产物流产生自所述流中的化学反应。某些粉末涂层在适当条件下固结为光学涂层。该基底可以具有其上设置光学涂层的第一光学涂层。在固结后所得到的光学涂层可以具有与在下的第一光学涂层较大的折射系数差异、在整个基底上具有高的厚度和折射系数均匀性和在等同条件下于不同基底上形成的涂层之间具有高的厚度和折射系数均匀性。在某些实施例中，可以在不超过约３０分钟内沉积厚至少约１００ｎｍ的粉末涂层，并且基底具有至少约２５平方厘米的表面积。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及形成涂覆的基底的方法，更特别是具有致密化为比如光学玻璃的光学材料涂层的基底。特别地，本专利技术涉及导致粉末涂层随后的固结的形成高质量光学涂层的方法，而该粉末涂层可以在光反应性沉积中以高的沉积速率形成。
技术介绍
包括基于互联网系统在内的通信和信息技术的爆发已经激发全世界范围的努力来实现光通信网络，从而利用光通信可实现的大的带宽。将光纤与平面光学结构相接口进一步扩展了光纤技术的能力。随着不断增加的需求，需要更多的信道来实现系统功能。集成平面部件可以被用来替代分立的光学部件以提供所需的能力。为了形成这些集成结构，在对基底形成特定组成使得该组成提供适当的光学性能方面有着显著的兴趣。为了由这些材料形成具有高质量光学涂层的光学器件，因此需要说明涂层的性能。光学材料基本的特性包括表面质量、均匀性和光学质量。光学质量指足够小的吸收和散射损失以获得希望水平的透射。光学质量也包括比如折射系数的光学性能和双折射性能的均匀性。此外，光学质量受到界面质量的影响，比如芯层和覆层之间的界面。对于氧化硅(SiO2)和几种其它的材料，对于光透射优选的形式是玻璃，虽然对于一些其它的材料而言，单晶体或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在具有第一涂层的基底上形成光学涂层的方法，所述方法包括在第一涂层上从产物流沉积粉末涂层，其中所述产物流产生自所述流中的化学反应，并且其中所述粉末涂层在适当条件下固结为光学涂层，其中所述光学涂层和所述第一涂层在固结之后具有至少约１％的折射系数差异。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕向欣，赫尔曼A洛佩兹，普拉萨德纳拉西马，埃里克尤夫拉尔德，罗纳德J莫索，
申请(专利权)人：内诺格雷姆公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]