具有形成图案的包层的平面波导及其生产方法技术

一种具有形成图案的包层（６０）的集成光波导，该形成图案的包层（６０）限定了一开口，使得光传输元件（１３）的至少一侧或至少一端（３２）是空气包层的。该空气包层的区域优选为与波导（３０）成为一个整体的透镜结构或位于波导内的弯曲处。一种制造具有形成图案的包层的光波导的方法，其包括：在部分衬底上形成遮挡层（１１０），其中，该遮挡层（１１０）形成图案且对预定的波长不透明，该衬底对该波长透明；从上方使该芯层形成图案以提供光传输元件；在该光传输元件上和／或在该形成图案的遮挡层上和／或在该衬底的未覆盖部分上沉积上包层，该上包层包含能通过曝光于该波长的光（１１６）来固化的材料；用该波长的光（１１６）从下方照射所述上包层，以使所述上包层中那些没有位于所述形成图案的遮挡层上方的部分固化；以及将所述上包层的未固化部分移除。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有形成图案的(patterned)上包层的集成光波导，以及使该上包层形成图案的方法。
技术介绍
集成光波导典型地由形成图案的、被包层材料(其折射率为n2)包围并且安装在机械性能坚固的衬底之上的光导芯层(其折射率为n1，其中n2＜n1)构成。这些波导通常具有平的端面，常常通过采用钻石轮划片机(dicing saw)切割该衬底和波导结构、然后通过抛光步骤去除散射中心来生产。通过芯和包层之间的折射率差，将沿波导传播的光在芯中进行导引。参照附图，图1a和1b示出了现有技术中已知的典型集成光波导10的端面的侧视图和端视图，其包含衬底11、下包层12、光导芯13和上包层14。根据材料系统，可使用多种技术来沉积下包层、芯层和上包层，它们包括火焰水解法或者化学气相沉积法(例如用于玻璃)、分子束外延(例如用于半导体)以及旋涂(例如用于聚合物)。可通过光刻(photolithography)和活性离子蚀刻法(适用于大多数材料)或者通过光刻和湿法蚀刻法(例如用于可由光形成图案的聚合物)(photo-patternablepolymers)来使芯层形成图案。下包层12和上包层14的折射率需本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于生产集成光波导的方法，其中，上述集成光波导具有形成图案的上包层，该方法包括以下步骤：ａ）在衬底上沉积芯层，二者之间可以有、也可以没有下包层；ｂ）使所述芯层形成图案以提供光传输元件；ｃ）在所述光传输元件上沉积上 包层；以及ｄ）使所述上包层形成图案以提供至少一个区域，且在上述区域内，所述光传输元件是空气包层的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：IA麦克斯维尔，D库库尔吉，R查特尔斯，
申请(专利权)人：RPO私人有限公司，
类型：发明
国别省市：AU[澳大利亚]