光学折射率调制聚合物、光学折射率调制聚合物组合物和折射率调节方法技术

本发明专利技术的目的是提供调节折射率的方法，通过该方法，可有效地改变光学聚合物模制品的折射率，而无需复杂的步骤，例如预先氧化的步骤；并且该方法可用于制备光学器件，对光学器件赋予优异的透明度。本发明专利技术的另一个目的是提供用于该方法的光学折射率调制聚合物或光学折射率调制聚合物组合物。本发明专利技术涉及调节折射率的方法，其特征在于：用射线，例如紫外线照射下述光学折射率调制聚合物或含有该聚合物的组合物，以使乙烯基反应并由此产生密度改变，以便通过照射，产生０．００５或更大的折射率增加（△ｎ），所述聚合物为包括下述通式表示的丙烯酸乙烯基单体的一种或多种单体作为必要成分的聚合物，且所述聚合物在分子中残留有可自由基聚合的乙烯基侧链，ＣＨ↓［２］＝Ｃ（Ｒ↑［１］）Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｒ↑［２］＝ＣＨ↓［２］（其中Ｒ↑［１］为氢原子或甲基，Ｒ↑［２］为具有１－２０个碳原子的饱和或不饱和烃基，条件是该单体在分子中可具有一个或多个杂原子和／或一个或多个卤原子）。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学折射率调制聚合物或光学折射率调制聚合物组合物，以及调节它们折射率的方法，所述聚合物或聚合物组合物在用例如紫外线等射线照射时，它们的折射率增加。
技术介绍
一直以来，热衷于研究和开发各种光学器件，例如光纤、光学衍射光栅、光存储器和光学集成电路。近来，作为这些光学器件的材料，可加工性、挠性和其它性质优异的聚合物材料正受到关注。在制备光学器件时，能随意精确调节器件的折射率的技术是必不可少的。以用于无机材料的情况而著称的这种技术为，例如以下的方法其中用光照射锗掺杂的玻璃，以改变玻璃的折射率，并制备光学衍射光栅。在聚合物材料的情况下，披露了制备光学衍射光栅的技术，其中用激光照射包括聚合物和分散在聚合物中在光化学反应时活泼的低分子化合物的材料，以诱导光致变色反应(光漂白)，并由此改变折射率(参见专利文献1)。还披露了以下的技术，在该技术中使用光漂白生成所谓的陡度折射率材料(graded-refractive-index material，GRIN材料)，其中折射率连续变化(参见专利文献2)。在这些技术中，使用通过用低分子化合物掺杂而获得的材料或者将低分子化合物掺入聚合物分子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学折射率调制聚合物，其特征在于所述聚合物为包括下述通式（１）表示的丙烯酸乙烯基单体作为必要成分的一种或多种单体的聚合物，ＣＨ↓［２］＝Ｃ（Ｒ↑［１］）Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｒ↑［２］＝ＣＨ↓［２］（１）（其中Ｒ↑［１］为氢 原子或甲基，Ｒ↑［２］为具有１－２０个碳原子的饱和或不饱和烃基，该单体在分子中可具有一个或多个杂原子和／或一个或多个卤原子），以及其中所述聚合物在分子中残留有可自由基聚合的乙烯基侧链，以及该聚合物在照射射线时的折射率增加（△ ｎ）在照射前后为０．００５或更大（用ＴＥ模式的ｍ－Ｌｉｎｅ方法测量的）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：川口佳秀，诸石裕，井上彻雄，宗和范，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]