三维纳米多孔薄膜及其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种三维纳米多孔薄膜及其制造方法，特别涉及一种具有高机械强度及抗反射能力的三维纳米多孔薄膜及其制造方法。该薄膜的制造方法包括：（ａ）提供基底，该基底具有预涂布面；（ｂ）于该基底的预涂布面上形成由三维纳米多孔涂覆组合物组成的膜层；（ｃ）给该由三维纳米多孔涂覆组合物组成的膜层提供能量，使该三维纳米多孔涂覆组合物进行聚合反应，以于该基底的预涂布面上形成有机无机混合层；和（ｄ）由第二溶剂将模板材由该有机无机混合层中溶出，形成三维纳米多孔薄膜。该三维纳米多孔薄膜有效折射率在１．４５以下，反射率不大于３％，具有极佳的机械强度及硬度，非常适合作为显示装置的抗反射及抗磨耗涂层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种具有高机械强度及抗反射能力的。
技术介绍
在显示装置(例如光学镜片、阴极射线显示器、等离子体显示器、液晶显示器、或是发光二极管显示器)的制程中，为避免影像受眩光或反射光的干扰，会在该显示装置的最外层(例如液晶显示器的透明基板)配置抗反射层。具有单层结构的抗反射光学薄膜，由于具有极佳的加工便利性、高良率、高产量及低设备成本等优点，已逐渐成为抗反射技术上主要的研发趋势。然而，已知用来形成复合抗反射光学薄膜的含氟无机材料，例如氟化镁或氟化钙，由于其包含了大量的氟原子，使得化合物本身不具有内聚力(cohesion)，导致所形成的单层结构抗反射光学薄膜的抗磨耗性(scratch resistance)无法达到适用的标准，而必需再外加一硬化层(hard coat layer)。此外，该已知的抗反射光学薄膜仅能针对特定波段(520～570nm)具有较佳的抗反射能力，所以需要由不同折射率的材料所构成的多层结构才可于可见光波段(400～780nm)达到抗反射目的，且含氟无机材料所构成的组成配方其有效折射率(neff)无法再进一步降低至1.40以下。为有效降低单层结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种三维纳米多孔薄膜的制造方法，包括：（ａ）提供基底，该基底具有预涂布面；（ｂ）于该基底的预涂布面上形成由三维纳米多孔涂覆组合物所组成的膜层，其中该三维纳米多孔涂覆组合物是包含在第一溶剂中，形式为均匀溶液的：４５至９ ５重量百分比的含氧化合物胶体，其中该含氧化合物胶体具有可聚合基团，且该含氧化合物胶体是３Ｂ族含氧化合物胶体、４Ｂ族含氧化合物胶体、５Ｂ族含氧化合物胶体、硅氧烷胶体、金属含氧化合物胶体或其组合；５至５５重量百分比的模板材；以及 ０．１至１０重量百分比的起始剂，其中上述该重量百分比是以该含氧化合物胶体和该模板...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王武敬，王彦博，李云卿，陈重裕，施希弦，陈先彬，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]