【技术实现步骤摘要】
用于量子点合成的反应器以及反应系统
本申请涉及量子点的合成领域，具体而言，涉及一种用于量子点合成的反应器以及反应系统。
技术介绍
量子点是一种重要的低维半导体材料，其三个维度上的尺寸都不大于其对应的半导体材料的激子玻尔半径的两倍。量子点一般为球形或类球形，其直径常在2-20nm之间。量子点合成过程中，快速地升温和降温不但影响量子点的颗粒均一性，而且对量子点的壳层包覆过程中，壳层生长的均匀性和质量有重要的影响。
技术实现思路
本申请实施例在于提供一种用于量子点合成的反应器以及反应系统，反应器被加热时，能够使得反应器中的物料较快地达到目标温度，且反应得较完全。本申请实施例是这样实现的：第一方面，本申请实施例提供一种用于量子点合成的反应器，反应器包括依次连通的多个反应管，多个反应管沿反应器的高度方向延伸并形成弯折管道，并使得物料能够从多个反应管的顶端流向底端。在上述技术方案中，物料从多个反应管的顶端经依次连通的多个反应管后流向底端，当反应器被加热时，物料在反应管内进行反应，由于多个反应管沿反...
【技术保护点】
1.一种用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述反应器包括依次连通的多个反应管，所述多个反应管沿所述反应器的高度方向延伸并形成弯折管道，并使得物料能够从所述多个反应管的顶端流向底端。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述反应器包括依次连通的多个反应管，所述多个反应管沿所述反应器的高度方向延伸并形成弯折管道，并使得物料能够从所述多个反应管的顶端流向底端。
2.根据权利要求1所述的用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述反应管包括第一反应管和第二反应管，所述第一反应管和所述第二反应管沿所述反应器的高度方向交替设置，所述第二反应管沿所述反应器的宽度方向设置，所述第一反应管的远离所述第二反应管的一端的延伸方向与所述第二反应管的远离所述第一反应管的一端的延伸方向之间的夹角为锐角。
3.根据权利要求2所述的用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述第一反应管的远离所述第二反应管的一端的延伸方向与所述第二反应管的远离所述第一反应管的一端的延伸方向之间的夹角为30-60°。
4.根据权利要求2所述的用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述多个反应管沿所述反应器的高度方向螺旋设置。
5.根据权利要求2-4任一项所述的用于量子点合成的反应器，其特征在于，所述第一反应管和所述第二反应管的衔接处为圆弧管。
6.一种反应系统，其特征在于，包括第一加热装置以及权利要求1-5任一项所述的用于量子点合成的反应器，所述第一加热装置被构造成对所述反应器加热。
7.根据权利要求6所述的反应系统，其特征在于，所述反应系统还包括搅拌装置，所述搅拌装置的出料端与所述反应管的进料管段连通。
8.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴雪芹，
申请(专利权)人：合肥福纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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