抑制高阶反射的多层反射器制造技术

本发明专利技术公开一种多层干涉反射膜。该多层干涉反射膜具有设置为形成整个反射膜中的光学重复单元的单独光学层。多个光学重复单元中每个具有六个单独层，其中至少三个单独层在设计波长λ↓［０］处具有不同的折射率。所述单独层具有名义上相同的折射率和物理厚度并且随意标记为“Ａ”、“Ｂ”、“Ｃ”和“Ｄ”，所述单独层按照ＣＡＣＤＢＤ的循环排列顺序布置在六层式光学重复单元中，其中层Ａ和层Ｂ每个都厚于层Ｃ和层Ｄ。可以选择所述单独层的厚度和折射率，以便在反射设计波长的光的同时抑制二阶、三阶和四阶反射。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有布置在光学重复单元中的多个单独层从而至少反射第一波长λ0的光的多层干涉膜。可以将光学重复单元中的层布置为抑制高阶反射，具体地说，至少抑制二阶(λ0/2)、三阶(λ0/3)和四阶(λ0/4)反射。这种膜特别但并非唯一地适用于红外应用场合，在红外应用场合中期望红外区域中的高反射，但是还期望整个可见光区域中的低反射/高透射。
技术介绍
多层干涉膜为人公知。在这种膜中，多个单独层以重复的顺序布置，其中最小重复布置层称为光学重复单元，有时候也称为单胞(unit cell)。相邻的各个层对于至少一个偏振状态的光具有不同的折射率。各个层还具有小于设计波长λ0的光学厚度(定义为各个层的物理厚度乘折射率)，使得各个层之间界面处反射的光分量的结构干涉或相消干涉可以出现，以便产生期望的波长λ0处的全反射。(因为通过材料传播的光束经历可以随着偏振状态、传播方向以及光束波长而变化的折射率，因此考虑了这些因素的材料“有效折射率”可以用于本文计算中。)在称为四分之一波长叠层(quarter-wavestack)的最简单的情况下，现有技术的膜包括相对高折射率材料(“H”)和相对低折射率材料(“本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多层反射膜，所述多层反射膜包括多个光学重复单元，所述光学重复单元中至少一些包括按照六层顺序ＣＡＣＤＢＤ或者其循环排列的顺序布置的单独层Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ，所述层Ａ和所述层Ｂ光学上厚于所述层Ｃ和所述层Ｄ，并且所述单独层具有满足下述关系的折射率：ｎ↓［Ａ］≥ｎ↓［Ｄ］＞ｎ↓［Ｃ］＞ｎ↓［Ｂ］或ｎ↓［Ａ］＞ｎ↓［Ｄ］＞ｎ↓［Ｃ］≥ｎ↓［Ｂ］。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔F韦伯，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]