变焦透镜制造技术

本发明专利技术公开了一种包括流体腔（１２）的变焦透镜（１０），其中所述流体腔（１２）含有第一流体（１４）和第二流体（１６）。所述流体不可混溶并在弯月面（１８）上接触，且所述第二流体可受磁场影响而改变其形状。所述第二流体优选地为铁磁流体。提供了装置（２０，２２），用于对所述流体腔的至少一部分施加梯度磁场（２４），其中所述梯度磁场能够感应产生使流体移动最大化的磁通量，使得所述弯月面的形状根据所述磁场改变。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包括第一流体和第二流体的变焦透镜，这两种流体不可混溶并在弯月面上接触。通过改变弯月面形状可以改变透镜的焦距。
技术介绍
现有技术的变焦透镜已知为电润湿(electrowetting)透镜。这些电润湿透镜包括含有两种不可混溶流体的流体腔，这些流体在其间界面处形成弯月面。因此，假设这些流体具有不同的折射率，该系统可以用做折射透镜。由于一种流体导电而另一种流体不导电，因而通过向该透镜施加电场，可以改变弯月面的形状并由此改变该透镜的焦距。例如在WO/069380 A1 中描述了电润湿透镜。电润湿透镜由于低功耗以及对变化电压的快速响应，特别适用于要求焦距频繁变化的移动应用。此外，构造简单并结合该透镜不含有任何机械部件的事实，使其尤具有优势。然而，电润湿透镜的缺点是，获得弯月面形状的充分变化需要相对较大的切换电压。典型的切换电压在100V的范围内。此外，由于介于电极和导电流体之间的所需绝缘层的击穿电压受限，或者由于饱和效应，弯月面半径的变化存在最大值。本专利技术的目的是提供一种变焦透镜，其所需的切换电压降低且不存在由于击穿电压导致的焦距变化限制。
技术实现思路
通过独立权利要求的特本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种变焦透镜（１０），包括：流体腔（１２），含有第一流体（１４）和第二流体（１６），所述流体不可混溶，并在弯月面（１８）上接触，且所述第二流体可受磁场影响而改变其形状；以及装置（２０，２２），用于对所述流体腔的至少一部分施加 梯度磁场（２４），由此感应产生使流体移动最大化的磁通量，从而使得所述弯月面的形状根据磁场而改变。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：BHW亨德里克斯，S凯帕，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]