基片检查系统、基片检查方法和存储介质技术方案

本发明专利技术提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明专利技术，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。

【技术实现步骤摘要】
基片检查系统、基片检查方法和存储介质
本专利技术涉及基片检查系统、基片检查方法和存储介质。
技术介绍
在专利文献1中公开有根据拍摄基片表面而得的图像来计算基片上所形成的膜的膜厚的结构。并且公开有在此时使用相关数据，该相关数据中从准备用拍摄图像获得的像素值和与像素值对应的各坐标的膜厚测量值相对应。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-215193号公报。
技术实现思路
本专利技术提供一种可更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型的技术。本专利技术的一个方式的基片检查系统是进行对象基片的成膜的基片处理装置的基片检查系统，其具有：拍摄部，其设置于所述基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于所述基片处理装置中，测量以与所述颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部，其制作膜厚模型，所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由所述膜厚测量部测量出的所述膜厚测量用基片的所述膜厚的对应关系。本专利技术能够提供一种可更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型的技术。附图说明图1是表示基片处理系统的概略结构的一个例子的示意图。图2是表示涂敷显影装置的一个例子的示意图。图3是表示检查单元的一个例子的示意图。图4是表示控制装置的功能性结构的一个例子的框图。图5是表示控制装置的硬件结构的一个例子的框图。图6是表示控制装置所进行的控制(晶片的检查)的一个例子的流程图。图7是表示光谱数据的获取位置的一个例子的图。图8是表示控制装置所进行的控制(基于颜色变化所进行的膜厚的推算)的一个例子的流程图。图9是表示控制装置所进行的控制(基于光谱数据所进行的膜厚的推算)的一个例子的流程图。图10是表示合格与否判断的一个例子的流程图。图11是表示控制装置所进行的控制(详细检查)的一个例子的流程图。图12是表示控制装置所进行的控制(模型制作时的图案晶片的处理)的一个例子的流程图。图13是表示控制装置所进行的控制(模型制作时的裸晶片的处理)的一个例子的流程图。图14是表示控制装置所进行的控制(模型制作时的晶片的处理)的一个例子的流程图。图15是表示控制装置所进行的控制(模型的制作)的一个例子的流程图。附图标记的说明1：基片处理系统，2：涂敷及显影装置(基片检查系统)，3：曝光装置，4：载体区块，5：处理区块，6：接口区块，11～14：处理组件，30：壳体，31：保持部，32：直线驱动部，33：拍摄部，34：反射部，35：摄像机，36：半反射镜，37：光源，40：分光测量部，41：入射部，42：波导部，43：分光器，44：光源，100：控制装置，101：检查实施部，102：图像信息保存部，103：分光测量结果保存部，104：膜厚计算部，105：判断部，106：详细检查实施部，107：模型制作部，108：模型保存部，109：分光信息保存部。具体实施方式以下，对各种例示的实施方式进行说明。在一个例示的实施方式中，基片检查系统是进行对象基片的成膜的基片处理装置的基片检查系统，其具有：拍摄部，其设置于所述基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于所述基片处理装置中，测量以与所述颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部，其制作膜厚模型，所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由所述膜厚测量部测量出的所述膜厚测量用基片的所述膜厚的对应关系。根据上述的基片检查系统，在基片处理装置中，基于颜色信息用基片的表面的图像数据获取关于表面的颜色变化的信息，并且在基片处理装置的膜厚测量部中测量以相同条件成膜的膜厚测量用基片的膜厚。而且，将这些信息组合，制作表示了关于颜色变化的信息与膜厚的对应关系的膜厚模型。因此，能够更简单地制作用于计算对象基片的膜的膜厚的模型。此处，能够为如下方式：所述拍摄部拍摄在表面形成有膜的所述对象基片，来获取所述对象基片的图像数据，所述基片检查系统还具有膜厚计算部，其基于从所述对象基片的图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述对象基片的表面的颜色变化的信息和所述膜厚模型，推算所述对象基片的膜厚。通过采用上述的结构，在膜厚计算部中基于从对象基片的图像数据获得的关于因膜的形成而引起的对象基片的表面的颜色变化的信息和膜厚模型，推算对象基片的膜厚。因此，对于利用了按上述方法得到的模型的对象基片的膜厚推算也能够适当地进行。能够采用如下方式：还具有进行在所述颜色信息用基片和所述膜厚测量用基片各自的表面形成膜的多个处理的成膜部，所述成膜部交替地进行关于对所述颜色信息用基片形成膜的处理和关于对所述膜厚测量用基片形成膜的处理。如上所述，在进行关于颜色信息用基片和膜厚测量用基片的成膜的成膜部中，对这些基片交替地实施处理，由此能够以更相近的条件实施对颜色信息用基片和膜厚测量用基片双方的成膜。因此，能够使由颜色信息用基片得到的关于颜色变化的信息与由膜厚测量用基片得到的膜厚以更高的精度对应，因此能够制作更高的精度的模型。所能够为如下方式：所述膜厚测量用基片是表面平坦的基片。通过采用如上述那样使用表面平坦的基片作为膜厚测量用基片来在该膜厚测量用基片上形成膜以测量膜厚的方式，能够以更高的精度进行膜厚测量部的膜厚的测量，因此能够制作更高精度的模型。能够采用所述拍摄部和所述膜厚测量部设置于同一单元中的方式。在如上述那样拍摄部和膜厚测量部设置于同一单元中的情况下，能够防止装置的大型化等，并且实现用于制作简便的模型的装置构成。在一个例示的实施方式中，基片检查方法是包含进行对象基片的成膜的基片处理装置的基片检查系统中的基片检查方法，其具有：拍摄步骤，在所述基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量步骤，在所述基片处理装置中，测量以与所述颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作步骤，制作膜厚模型，所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与所述膜厚测量步骤中测量出的所述膜厚的对应关系。根据上述的基片检查方法，基于颜色信息用基片的表面的图像数据获取关于表面的颜色变化的信息，并且测量以相同条件成膜的膜厚测量用基片的膜厚。而且，将这些信息组合，制作表示了关于颜色变化的信息与膜厚的对应关系的膜厚模型。因此，能够更简单地制作用于计算对象基片的膜的膜厚的模型。此处，能够为如下方式：拍摄在表面形成有膜的所述对象基片，来获取所述对象基片的图像数据，还具有膜厚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种进行对象基片的成膜的基片处理装置的基片检查系统，其特征在于，具有：/n拍摄部，其设置于所述基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；/n膜厚测量部，其设置于所述基片处理装置中，测量以与所述颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和/n模型制作部，其制作膜厚模型，所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由所述膜厚测量部测量出的所述膜厚测量用基片的所述膜厚的对应关系。/n

【技术特征摘要】
20190610 JP 2019-1081431.一种进行对象基片的成膜的基片处理装置的基片检查系统，其特征在于，具有：
拍摄部，其设置于所述基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；
膜厚测量部，其设置于所述基片处理装置中，测量以与所述颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和
模型制作部，其制作膜厚模型，所述膜厚模型表示了基于所述图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由所述膜厚测量部测量出的所述膜厚测量用基片的所述膜厚的对应关系。


2.如权利要求1所述的基片检查系统，其特征在于：
所述拍摄部拍摄在表面形成有膜的所述对象基片，来获取所述对象基片的图像数据，
所述基片检查系统还具有膜厚计算部，其基于从所述对象基片的图像数据获得的关于因所述膜的形成而引起的所述对象基片的表面的颜色变化的信息和所述膜厚模型，推算所述对象基片的膜厚。


3.如权利要求1或2所述的基片检查系统，其特征在于：
还具有进行在所述颜色信息用基片和所述膜厚测量用基片各自的表面形成膜的多个处理的成膜部，
所述成膜部交替地进行关于对所述颜色信息用基片形成膜的处理和关于对所述膜厚测量用基片形成膜的处理。


4.如权利要求1或2所述的基片检查系统，其特征在于：
所述膜厚测量用基片是表面平坦的基片。


5.如权利要求1或2所述的基片检查系统，其特征在于：
所述拍摄部和所述膜厚测量部设置于同一单元中。
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【专利技术属性】
技术研发人员：中村泰之，鹤田丰久，野田康朗，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP