用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室制造技术

本发明专利技术公开了用于4πβ‑γ符合测量的4π多丝正比室，包括框架、上盖板、下盖板、托板和阳极丝；所述上盖板覆盖于所述框架顶面，所述下盖板覆盖所述框架底面；所述框架侧面设置有匹配于所述托板的导向槽；所述托板用于放置放射源，且所述托板穿过所述导向槽并安装于所述框架内部；所述框架内部被所述托板分割为上腔室和下腔室；所述上腔室和下腔室内均设置有阳极丝；所述阳极丝的两端均固定于所述框架上。本发明专利技术用于4πβ‑γ符合测量的4π多丝正比室，降低4πβ‑γ符合测量这种放射性活度绝对测量方法的制源难度，并且使得4πβ‑γ符合测量方法能够直接测量类似于平面源这类大面积放射源的放射性活度。

【技术实现步骤摘要】
用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室
本专利技术涉及电离辐射计量
，具体涉及用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室。
技术介绍
4πβ-γ符合测量方法是一种测量放射性活度的绝对测量方法。由于该方法采用了符合技术，对绝大多数β-γ核素具有极高的准确度，因此各个国家的主要计量机构(NationalMetrologyInstitutes,NIMs)均建立有相应的4πβ-γ符合测量装置，并将其作为一个国家的放射性活度测量的基准装置。4πβ-γ符合测量装置包含两种类型的探测器，分别探测同一次衰变过程中发射出的两种类型的放射性粒子。其中，用于探测β粒子的探测器称为β探测器，用于探测γ粒子的探测器称为γ探测器。4πβ-γ符合测量装置中的β探测器一般为4π正比计数器。4π正比计数器采用的是单根阳极丝的布置方式，其电场分布呈发散状，因此对于面积较大的放射源，其对源内不同位置处的放射性物质的探测效率并不一致，进而影响测量结果。为了使得放射源面积的影响可以忽略，人们在制备待测放射源时，通常需要将放射源的源直径控制在3mm之内，因此具有较高的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室，其特征在于，包括框架(1)、上盖板(2)、下盖板(3)、托板(4)和阳极丝(7)；所述上盖板(2)覆盖于所述框架(1)顶面，所述下盖板(3)覆盖所述框架(1)底面；/n所述框架(1)侧面设置有匹配于所述托板(4)的导向槽；所述托板(4)用于放置放射源，且所述托板(4)穿过所述导向槽并安装于所述框架(1)内部；/n所述框架(1)内部被所述托板(4)分割为上腔室和下腔室；所述上腔室和下腔室内均设置有阳极丝(7)；所述阳极丝(7)的两端均固定于所述框架(1)上。/n

【技术特征摘要】
1.用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室，其特征在于，包括框架(1)、上盖板(2)、下盖板(3)、托板(4)和阳极丝(7)；所述上盖板(2)覆盖于所述框架(1)顶面，所述下盖板(3)覆盖所述框架(1)底面；
所述框架(1)侧面设置有匹配于所述托板(4)的导向槽；所述托板(4)用于放置放射源，且所述托板(4)穿过所述导向槽并安装于所述框架(1)内部；
所述框架(1)内部被所述托板(4)分割为上腔室和下腔室；所述上腔室和下腔室内均设置有阳极丝(7)；所述阳极丝(7)的两端均固定于所述框架(1)上。


2.根据权利要求1所述的用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室，其特征在于，还包括信号端子(5)和调节端子(6)；所述阳极丝(7)的一端通过所述调节端子(6)固定于所述框架(1)上，所述阳极丝(7)的另一端通过所述信号端子(5)固定于所述框架(1)上。


3.根据权利要求2所述的用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室，其特征在于，所述信号端子(5)用于引出阳极丝(7)采集的信号。


4.根据权利要求2所述的用于4πβ-γ符合测量的4π多丝正比室，其特征在于，所述调节端子(6)用于阳极丝(7)松紧程度的调节。


5.根据权利要2所述的用于4...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨杰，漆明森，程瑛，王玮，
申请(专利权)人：中国核动力研究设计院，
类型：发明
国别省市：四川;51