【技术实现步骤摘要】
一种后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法
本专利技术涉及功能纺织材料制备领域,具体涉及一种后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法。
技术介绍
在磁性纳米材料形成磁屏蔽织物的技术中,较常见的有涂层技术、静电纺丝技术和成膜技术等。自上个世纪70年代以来,我国逐步开始研究涂层技术,涂层产品相继问世[148,149]。涂层整理是将一层或几层高聚物等物质均匀地涂覆在纺织品的表面,以改善织物的外观和风格为目的,赋予织物一种或几种新的功能,目前,较普遍的涂层面料多为防水、防油、防污、耐磨、阻燃、防静电、防辐射、弹性、柔软等,这些涂层整理拓宽了织物的用途,大大提高产品的性能和附加值。因此,织物的涂层整理作为一项后整理技术,在当今纺织业中占有不可撼动的一席之位。MEElnaggar等研究人员[150]制备了一种ZnO纳米粒子,随后进一步改性制成SiO2@ZnO纳米粒子,结合适当整理剂涂层到棉织物表面,以分析形成织物的抗菌、抗紫外功能。实验结果表明,当涂层织物经过20次水洗之后,仍能保持与涂覆材料之间很好的结合,且抗菌、抗紫外性能良好。NPProro ...
【技术保护点】
1.一种后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:预洗:对于基布水洗;/n烘干1:将水洗后的基布置于烘箱内烘干;/n等离子处理:将后感后的基布使用等离子气体进行等离子处理;/n涂层:使用磁性纳米粒子,搭配使用稳定剂和渗透剂使得基布上涂布有涂层;/n烘干2:涂层后后的基布置于烘箱中进行烘干;/n水洗:烘干后的基布使用水进行清洗;/n烘干3:清洗完毕的基布再次进行烘干。/n
【技术特征摘要】
1.一种后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:预洗:对于基布水洗;
烘干1:将水洗后的基布置于烘箱内烘干;
等离子处理:将后感后的基布使用等离子气体进行等离子处理;
涂层:使用磁性纳米粒子,搭配使用稳定剂和渗透剂使得基布上涂布有涂层;
烘干2:涂层后后的基布置于烘箱中进行烘干;
水洗:烘干后的基布使用水进行清洗;
烘干3:清洗完毕的基布再次进行烘干。
2.根据权利要求1所述的后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法,其特征在于:所述预洗中,预洗温度为80-100℃,时间为60-120min。
3.根据权利要求1所述的后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法,其特征在于:所述烘干1中,烘干温度为50-80℃,烘干时间为10-40min。
4.根据权利要求1所述的后整理实现磁屏蔽功能织物的制备方法,其特征在于:所述等离子处理中,等离子气体包括氧气、氢气、氩气中的一种或多种,输出功率为100-300w,处理时间为2-4min。
5.根据权利要求1所述的后整理实现磁...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋晓蕾,吴依琳,陈志,李永贵,魏取福,
申请(专利权)人:闽江学院,
类型:发明
国别省市:福建;35
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