光学薄膜、抗反射薄膜、偏振片、显示设备和光学薄膜的制备方法技术

一种光学薄膜，其包括：透明载体和由涂布组合物形成的至少一层功能层，其中所述至少一层功能层是通过热能和光能将所述涂布组合物固化而形成的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
抗反射薄膜通常位于显示设备的最外面，以防止因外来光的反射或者显示设备如阴极射线管显示设备(CRT)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)或液晶显示设备(LCD)中图象的眩光引起的对比度降低从而使用光干涉的原理降低反射。一般说来，抗反射薄膜可以通过在载体上形成高折射率层如硬涂层以及进一步在其上形成具有适当膜厚的低折射率层来制备。低折射率层在许多情况下成为抗反射薄膜的最外层，因此必需具有高的耐擦伤性。然而，为了赋予为薄膜的低折射率层以高耐擦伤性，对薄膜本身的强度和与下层的粘附性有要求。另一方面，为了实现抗反射薄膜低的反射率，具有最小折射率的材料对低折射率层是理想的。为了降低该层的折射率，有如下手段(1)加入氟原子，和(2)降低密度(引入空隙)。然而，在任何情况下，薄膜强度或粘附性都降低，使得耐擦伤性趋于降低。因此，难以同时获得低折射率和高耐擦伤性。例如，描述了一种向含氟聚合物中加入聚硅氧烷结构并由此降低薄膜表面的摩擦系数以提高耐擦伤性的方法(参见，JP-A-11-189621、JP-A-11-228631和JP-A-2000-313709本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜，其包括：透明载体；和由涂布组合物形成的至少一层功能层，其中所述至少一层功能层是通过热能和光能将所述涂布组合物固化而形成的。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：福重裕一，铃木贵登，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]