分子印迹板制造技术

技术编号:26672853 阅读:63 留言:0更新日期:2020-12-11 18:29
本实用新型专利技术公开了分子印迹板。该分子印迹板包括:基板,所述基板为金属板;以及分子印迹层,所述分子印迹层覆着在所述基板的至少部分表面上,所述分子印迹层是由分子印迹多聚物形成的,呈多孔状,所述孔为待提取化合物嵌合空间。该分子印迹板的分子印迹层涂层均匀,对待提取化合物及其结构类似物具有特异性吸附和富集作用,提取富集的特异性强,并适用于色谱串联质谱、敞开式质谱等分析手段进行检测。

【技术实现步骤摘要】
分子印迹板
本技术涉及分析化学领域,具体地,涉及分子印迹板。
技术介绍
基于分子印迹聚合物修饰的固体基板电喷雾质谱目前研究多是采用类似多孔膜、木尖等的惰性材料,采用惰性材料作为固体基板时,通常需要用铜夹子的固定及导电作用,用以将高压电施加在固体基板上,这会在一定程度上增加固体基板移动的风险,影响实验的平行性。并且,通过我们的前期实验,我们发现将多孔膜作为固相基板时具有较高的背景干扰。由此,现有分子印迹板有待改进。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术的一个目的在于提出一种分子印迹板,该印迹板不易位移,质谱检测背景干扰小。因而,根据本技术的一个方面,本技术提供了一种分子印迹板。根据本技术的实施例,该分子印迹板包括:基板,所述基板为金属板;以及分子印迹层,所述分子印迹层覆着在所述基板的至少部分表面上,所述分子印迹层是由分子印迹多聚物形成的,呈多孔状,所述孔为待提取化合物嵌合空间。根据本技术实施例的分子印迹板,采用金属材质的基板显示出较低的质谱等检测背景噪声,并且均匀修饰上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种分子印迹板,其特征在于,包括:/n基板,所述基板为金属板;以及/n分子印迹层,所述分子印迹层覆着在所述基板的至少部分表面上,所述分子印迹层是由分子印迹多聚物形成的,呈多孔状,所述孔为待提取化合物嵌合空间。/n

【技术特征摘要】
1.一种分子印迹板,其特征在于,包括:
基板,所述基板为金属板;以及
分子印迹层,所述分子印迹层覆着在所述基板的至少部分表面上,所述分子印迹层是由分子印迹多聚物形成的,呈多孔状,所述孔为待提取化合物嵌合空间。


2.根据权利要求1所述的分子印迹板,其特征在于,所述金属板为不锈钢板。


3.根据权利要求1所述的分子印迹板,其特征在于,所述基板至少具有一个角状端。


4.根据权利要求3所述的分子印迹板,其特征在于,所述基板呈等腰三角形。

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【专利技术属性】
技术研发人员:张峰刘通王秀娟国伟田红静
申请(专利权)人:中国检验检疫科学研究院
类型:新型
国别省市:北京;11

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