表面改性剂制造技术

一种含有有机硅酮化合物的表面改性剂，所述有机硅酮化合物由通式（Ａ）和／或通式（Ｂ）表示：Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］－（ＯＣ↓［２］Ｆ↓［４］）↓［ｎ］－（ＯＣＦ↓［２］）↓［ｏ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｐ］Ｘ（ＣＨ↓［２］）↓［ｒ］Ｓｉ（Ｘ′）↓［３－ａ］（Ｒ１）↓［ａ］（Ａ）和Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］－（ＯＣ↓［２］Ｆ↓［４］）↓［ｎ］－（ＯＣＦ↓［２］）↓［ｏ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｐ］Ｘ（ＣＨ↓［２］）↓［ｒ］（Ｘ′）↓［２－ａ］（Ｒ↑［１］）↓［ａ］ＳｉＯ（Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］－（ＯＣ↓［２］Ｆ↓［４］）↓［ｎ］－（ＯＣＦ↓［２］）↓［ｏ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｐ］Ｘ（ＣＨ↓［２］）↓［ｒ］（Ｘ′）↓［１－ａ］（Ｒ↑［１］）↓［ａ］ＳｉＯ）↓［ｚ］Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］－（ＯＣ↓［２］Ｆ↓［４］）↓［ｎ］－（ＯＣＦ↓［２］）↓［ｏ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｐ］Ｘ（ＣＨ↓［２］）↓［ｒ］（Ｘ′）↓［２－ａ］（Ｒ↑［１］）↓［ａ］Ｓｉ（Ｂ），其中，ｑ是１～３的整数；ｍ、ｎ和ｏ独立地为０～２００的整数；ｐ是１或２；Ｘ是Ｏ或者二价有机基团；ｒ是２～２０的整数；Ｒ↑［１］是Ｃ↓［１－２２］直链或支化的烃基；ａ是０～２的整数；Ｘ′是水解性基团；以及当ａ为０或１时，ｚ是０～１０的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于在各种基材的表面上形成低表面张力层或防尘层的 表面改性剂，以及使用所述表面改性剂形成处理层的方法。此外，本发 明涉及光学元件(例如，抗反射膜、光学滤镜、光学透镜、眼镜镜片、分光镜(beam splitter)、棱镜、镜子等)，其中使用了所述表面改性剂； 应用在显示器(例如，液晶显示器、CRT显示器、投影电视、等离子体 显示器、EL显示器等)的屏幕表面的抗反射光学元件；光学功能性元件； 其中所述光学功能性元件粘附在显示屏表面的显示器装置；经处理的镜 片；经处理的陶器等。竹景技术抗反射涂层、光学滤镜、光学透镜、柔性焦距透镜组、分光镜、棱 镜、镜子和其他光学元件以及卫浴用具在使用时易于沾上指纹、皮肤油 (skinoil)、汗、化妆品等。 一旦沾上，这些污垢不易清除，特别是，粘 在具有抗反射涂层的光学元件上的污垢非常明显并造成问题。此外，汽 车和飞机的窗户要求具有持久的防水性。为解决与污垢和防水性相关的问题，迄今已提出使用各种防污剂的 技术。例如，日本未审査专利公报第1997-61605号已提出通过使用含全氟 烷基的化合物对基材进行表面处理而得到的防污抗反射滤镜。日本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面改性剂，所述表面改性剂含有由通式（Ａ）和／或通式（Ｂ）表示的有机硅酮化合物：　　　　Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］－（ＯＣ↓［２］Ｆ↓［４］）↓［ｎ］－（ＯＣＦ↓［２］）↓［ｏ］（ＣＨ↓［２］）↓［ｐ］Ｘ（ＣＨ↓［２］）↓［ｒ］Ｓｉ（Ｘ′）↓［３－ａ］（Ｒ１）↓［ａ］　　（Ａ）　　　　其中，ｑ是１～３的整数；ｍ、ｎ和ｏ独立地为０～２００的整数；ｐ是１或２；Ｘ是Ｏ或者二价有机基团；ｒ是２～２０的整数；Ｒ↑［１］是Ｃ↓［１－２２］直链或支化的烃基；ａ是０～２的整数；Ｘ′是水解性基团；和　　　　Ｆ－（ＣＦ↓［２］）↓［ｑ］－（ＯＣ↓［３］Ｆ↓［６］）↓［ｍ］...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊丹康雄，桝谷哲也，彼得C胡佩费尔德，唐李克莱尔，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，道康宁公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]