【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术公开涉及光学膜,该光学膜具有适合控制光学特性(如 控制反射或透射光的特定偏振状态)的结构,并且本专利技术公开还涉及 制备该光学膜的方法。更具体地说,本专利技术公开涉及用于反射偏振膜 结构中的聚合物共混物,以及加工这种结构(特别是基本上单轴取向 加工)的方法。专利技术概述在一方面中,本专利技术公开涉及一种偏振膜,该偏振膜具有由第一 聚合物构成的第一相以及设置在所述第一相中的由第二聚合物构成 的第二相,其中,所述第一相与所述第二相沿第一轴的折射率之差大 于约0.05,并且沿与所述第一轴正交的至少一个轴的折射率之差小于 约0.05。对电磁辐射的至少一个偏振状态而言,所述第一相和所述第 二相沿至少一个轴的总漫反射率可以为至少约30%。所述第二相的折 射率为约1.53至约1.59。在另一方面中,本专利技术公开涉及一种形成光学膜的方法,该方法 包括形成膜,其具有由第一聚合物构成的第一相以及设置在该第一 相内的由第二聚合物构成的第二相,其中所述第二聚合物的折射率为 约1.53至约1.59;在固定该膜的相对边缘部分的条件下,将所述膜 沿纵向传送进拉伸机内;并且(c ...
【技术保护点】
一种偏振膜(4),该偏振膜(4)包含:由第一聚合物构成的第一相(6),以及设置在所述第一相(6)中的由第二聚合物构成的第二相(8),其中,所述第一相(6)与所述第二相(8)沿第一轴的折射率之差大于约0.05,并且沿与所述第一轴正交的至少一个轴的折射率之差小于约0.05,其中,对电磁辐射的至少一个偏振状态而言,所述第一相(6)和所述第二相(8)沿至少一个轴的总漫反射率为至少约30%,并且其中,所述第二相(8)的折射率为约1.53至约1.59。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:马修B约翰逊,马丁E登克尔,克里斯托弗J德克斯,蒂莫西J埃布林克,理查德J汤普森,罗伯特D泰勒,马修J米克尔,马克B奥尼尔,
申请(专利权)人:三M创新有限公司,
类型:发明
国别省市:US[]
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