高折射率光学薄膜用LaTiO*蒸发材料及其制备方法和用途技术

一种高折射率光学薄膜用蒸发材料，是一种化学式为ＬａＴｉＯ↓［３］的化合物。该材料为单一相结构组成，不存在其它杂相。该材料密度为５．２～５．９ｇ／ｃｍ↑［３］，材料充填性好。以Ｔｉ↓［２］Ｏ↓［３］和Ｌａ↓［２］Ｏ↓［３］；或者ＴｉＯ↓［２］、Ｌａ↓［２］Ｏ↓［３］和Ｔｉ为原料，在高温和真空状态下进行固相反应，生成ＬａＴｉＯ↓［３］。该ＬａＴｉＯ↓［３］蒸发材料用于制备高折射率光学膜层，该膜层为性能优异的硬介质膜层。所述的高折射率光学膜层为树脂镜片的镀膜、分色棱镜或宽带的增透膜。在制备高折射率光学薄膜的方法中，在蒸发过程中ＬａＴｉＯ↓［３］蒸发材料组成保持不变，坩埚中ＬａＴｉＯ↓［３］蒸发材料不用更新而保持所制备薄膜的折射率稳定。并且经一次熔化后，可以进行多次蒸发，制备多个高折射率光学薄膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种高折射率光学薄膜用LaTiO:,蒸发材料及其制备方法和用途。
技术介绍
高折射率光学薄膜材料被广泛应用于各种光学膜系的设计中，它们主 要用来与低折射率材料或者与中折射率、低折射率材料配合使用制备各种 减反膜，这些薄膜主要用在光学仪器的透镜、棱镜、反光镜等。目前广泛 使用的高折射率材料主要有各种钛、锆、铪、钽、铌的氧化物以及它们的混合材料。为了进一步拓宽材料的选择范围，满足光学膜系设计要求，各种混合 膜料被开发出来并被广泛应用在光学薄膜镀制中。混合膜料在薄膜中的应 用不仅可得到所需的折射率，而且还可改善膜层的特性和材料的蒸发特性。 如氧化锆钽混合膜料的折射率比氧化锆高，克服了氧化锆折射率随着膜层 厚度增加而下降的不足，其膜层更致密牢固。在氧化锆中加入氧化钇也可 抑制薄膜折射率的非均匀性，提高膜层的致密度和膜面的光洁度，在氧化 钛中加入氧化锆、氧化钽、氧化铌等化合物可促进氧化钛在蒸发时的氧化, 减少膜层吸收。在Ti02中加入LaA、 P』n等制成的混合膜料，该材料可在 基片不加温时进行蒸镀，适用于树脂镜片的镀膜。近几年来，树脂镜片由于其重量轻、强度高、透光性好，在光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
高折射率光学薄膜用蒸发材料，其特征在于，该材料是一种化学式为ＬａＴｉＯ↓［３］的化合物，该材料为单一相结构组成，不存在其它杂相，该材料密度为５．２～５．９ｇ／ｃｍ↑［３］，材料充填性好。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张碧田，潘德明，王星明，段华英，储茂友，邓世斌，孙静，张明贤，龚述荣，
申请(专利权)人：北京有色金属研究总院，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]