本发明专利技术提供了一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器，曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；曝光器沿曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，曝光器沿步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；曝光器包括至少一组曝光头组，曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头，曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术，在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头，使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光，提高了曝光的效率。
【技术实现步骤摘要】
一种曝光设备
本专利技术涉及曝光设备
，特别是涉及一种多曝光头的曝光设备。
技术介绍
曝光设备是一种利用光反应原理，对被曝光物体上的光反应材料进行光反应。现有技术中的曝光设备，一种是通过菲林(Film)进行成像曝光，一种是通过数字微镜晶片(DMD)成像曝光。采用菲林工艺存在一些缺点：比如需要对位及调节，生产效率低下；不能采用高能量的光源曝光，速度慢。采用DMD的方式曝光，能够免去菲林的使用，因此，菲林的光绘、对位等工序都可以省去，且DMD的曝光光源为曝光，曝光速度提高。但DMD成像曝光采用的是投影原理，机械部分相当复杂，形成的光点群功率有限，所以投影到工作面的曝光能量有上限，所以能够曝光的感光材料厚度较薄。现有技术中也有通过单个光源直接曝光的方式，这种曝光方式能量高，结构简单，但是单个光源的光斑面积小，对于大面积的或者复杂的曝光图形，单个光源曝光的效率非常低。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺陷，本专利技术提供了一种效率高、曝光能量高的曝光设备。为实现上述目的，本专利技术提供一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器，曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；曝光器沿曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，曝光器沿步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；曝光器包括至少一组曝光头组，曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头，曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术，在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头，使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光，提高了曝光的效率。在其中一个实施例中，每组曝光头组中，曝光头沿步进方向均匀分布。在其中一个实施例中，每组曝光头组中，曝光头沿步进方向紧密布置。在其中一个实施例中，每组曝光头组中，曝光头的个数N至少为20个。在其中一个实施例中，曝光头组沿曝光方向布置至少两组，每两组曝光头组以偏中心方式布置。在其中一个实施例中，曝光器沿步进方向单次运动的步长w≥1um。在其中一个实施例中，在曝光过程中，曝光器先沿曝光方向运动，后沿步进方向运动，再沿曝光方向的反方向运动，并再次沿步进方向运动，并循环上述过程。在其中一个实施例中，在曝光过程中，曝光器先沿曝光方向运动，后沿曝光方向的反方向运动，再沿步进方向运动，并循环上述过程。在其中一个实施例中，每个曝光头配合设置有对位设备，对位设备用于获取并补偿曝光头的位置偏移量。在其中一个实施例中，每组曝光头组配合设置有对位设备，对位设备用于获取并补偿曝光头组的位置偏移量。在其中一个实施例中，曝光器配合设置有对位设备，对位设备用于获取并补偿曝光器的位置偏移量。在其中一个实施例中，曝光平台上配合设置有对位设备，对位设备用于获取并补偿曝光头的位置偏移量。在其中一个实施例中，曝光头组包括至少两排沿曝光方向布置的曝光头排，每两排曝光头排以同中心布置，且每两排曝光头排的曝光头的光源的波长互不相同。在其中一个实施例中，曝光头组包括三排沿曝光方向布置的曝光头排。在其中一个实施例中，曝光头的光源的波长范围是100nm-420nm。一种采用上述的曝光设备对被曝光物体进行曝光的曝光方法，被曝光物体具有待曝光的曝光范围，包括如下步骤：A1.将曝光范围沿步进方向分为至少一个曝光块，每个曝光块沿步进方向分为至少一个曝光区域，一个曝光块具有与之对应的所述曝光头，所述曝光头可以对一个曝光区域进行曝光；A2.曝光器沿曝光方向运动，曝光头曝光所对应的曝光块的一个曝光区域；A3.曝光器沿步进方向运动，使得曝光头可以对另一个曝光区域进行曝光。一种曝光器对被曝光物体进行曝光的曝光方法，被曝光物体具有待曝光的曝光范围，曝光器的运动方向包括曝光方向和步进方向，包括如下步骤：S1.将曝光范围分为至少一个曝光块，每个曝光块分为至少一个曝光区域；S2.曝光器对准至少一个曝光块的一个曝光区域；S3.曝光器沿曝光方向运动，对至少一个曝光块的一个曝光区域进行曝光；S4.曝光器沿步进方向运动，对准至少一个曝光块的另一个曝光区域。在其中一个实施例中，曝光方法还包括如下步骤：S5.曝光器沿曝光方向的反方向运动，对至少一个曝光块的一个曝光区域进行曝光；步骤S5位于所述步骤S3和步骤S4之间。在其中一个实施例中，曝光方法还包括如下步骤：S5.曝光器沿曝光方向的反方向运动，对至少一个曝光块的另一个曝光区域进行曝光；步骤S5位于所述步骤S4之后。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是具有曝光头组的曝光设备的示意图；图2是曝光头布置的示意图；图3是多组曝光头组布置的示意图；图4是曝光头曝光方式的示意图；图5是具有曝光头排的曝光设备的示意图；图6是多排曝光头排布置的示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本专利技术做进一步说明。需要说明的是，在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广。因此本专利技术不受下面公开的具体实施方式的限制。如图1、2、3所示，曝光设备A用于对被曝光物体B进行曝光，曝光设备A包括曝光平台1和可相对曝光平台1运动的曝光器2，被曝光物体B放置在曝光平台1上，随曝光平台1相对曝光器2运动，接受曝光器2的全部或局部曝光。这里的相对运动可以是曝光平台1静止、曝光器2运动，或者是曝光平台1运动、曝光器2静止，亦或者是曝光平台1和曝光器2均运动。在曝光工作中，曝光器2相对曝光平台1的运动包括曝光方向x和步进方向y。其中曝光器2沿曝光方向x运动时，对被曝光物体B进行曝光；曝光器2沿步进方向y运动时，改变被曝光物体B上的曝光区域。由于曝光器2功能、尺寸等局限性，曝光器2在沿曝光方向x的一次运动后，无法对被曝光物体B上需要曝光的范围全部完成曝光，因此可以理解为曝光器2将被曝光物体B上需要曝光的范围分为多个曝光区域，曝光器2在沿曝光方向x的一次运动后，完成了其中一个曝光区域的曝光，然后曝光器2沿步进方向y运动，改变曝光区域，可以对另一个曝光区域继续进行曝光。在本实施例中，曝光方向x和步进方向y是垂直的。如图2所示，在本专利技术的实施例中，曝光器2包括至少一组曝光头组21，每组曝光头组21中包括至少两个沿步进方向y同中心布置的曝光头211。其中，曝光头211包括用于发射光线的光源211a和用于聚焦光线的镜头211b。光源211a本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对所述曝光平台运动的曝光器，所述曝光器相对所述曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；所述曝光器沿所述曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，所述曝光器沿所述步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；其特征在于，所述曝光器包括至少一组曝光头组，所述曝光头组包括至少一个沿所述步进方向同中心布置的曝光头，所述曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。/n
【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对所述曝光平台运动的曝光器，所述曝光器相对所述曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；所述曝光器沿所述曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，所述曝光器沿所述步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；其特征在于，所述曝光器包括至少一组曝光头组，所述曝光头组包括至少一个沿所述步进方向同中心布置的曝光头，所述曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。
2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，每组所述曝光头组中，所述曝光头沿所述步进方向均匀分布。
3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，每组所述曝光头组中，所述曝光头沿所述步进方向紧密布置。
4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，每组所述曝光头组中，所述曝光头的个数N至少为20个。
5.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光头组沿所述曝光方向布置至少两组，每两组所述曝光头组以偏中心方式布置。
6.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光器沿所述步进方向单次运动的步长w≥1um。
7.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，在曝光过程中，所述曝光器先沿所述曝光方向运动，后沿所述步进方向运动，再沿所述曝光方向的反方向运动，并再次沿所述步进方向运动，并循环上述过程。
8.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，在曝光过程中，所述曝光器先沿所述曝光方向运动，后沿所述曝光方向的反方向运动，再沿所述步进方向运动，并循环上述过程。
9.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，每个所述曝光头配合设置有对位设备，所述对位设备用于获取并补偿所述曝光头的位置偏移量。
10.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，每组所述曝光头组配合设置有对位设备，所述对位设备用于获取并补偿所述曝光头组的位置偏移量。
11.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光器配合设置有对位设备，所述对位设备用于获取并补偿所述曝光器的位置偏移量。
12.根据权利要求9、10或11的其中之一所述的曝光设备，...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴景舟，陈国军，马骏，马迪，
申请(专利权)人：江苏迪盛智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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