用于校正由光学传感器检测到的主测量信号的方法技术

本发明专利技术涉及用于校正由光学传感器检测到的主测量信号的方法。该方法包括：提供具有光源、有源传感器层、光学检测器和控制单元的光学测量装置，其中，控制单元被连接到光源和光学检测器；从光源向有源传感器层发射第一光信号，使得有源传感器层被激励并向光学检测器发射第二光信号；检测由有源传感器层发射的第二光信号；基于第一和第二光信号或者基于第一光信号，来确定主测量参数的主测量信号；基于第一或第二光信号，来确定与主测量参数不同的次测量参数的次测量信号；将所确定的次测量信号与第一极限值进行比较；如果次测量信号超过第一极限值，则来校正主测量信号；其中，校正主测量信号包括对主测量信号进行滤波，使得主测量信号被平滑。

【技术实现步骤摘要】
用于校正由光学传感器检测到的主测量信号的方法
本专利技术涉及一种用于校正由光学传感器检测到的主测量信号的方法。
技术介绍
在过程分析领域中，光学传感器用于监测例如发酵罐中的化学过程。此外，将氧气引入发酵罐中，以控制发酵罐中的细菌生长。这是借助于不断的引入气体来完成的。当引入气体时，气泡通常移动经过光学传感器。在借助于光学传感器测量诸如介质的溶解氧或电导率的各种过程参数的普遍问题是气泡对光学传感器的影响。例如，单个气泡可能暂时地沉积到光学传感器上，从而阻碍过程参数的正确且连续地测量。气泡阻止光学传感器与液体介质之间的接触。因此，当气泡沉积到传感器以及从传感器脱离时，由光学传感器测量的测量信号突然改变。因此，气泡导致对用作示例的发酵过程的调节的干扰。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供一种方法，该方法允许借助于光学传感器来最小化对过程调节的干扰。根据本专利技术，该目的通过根据权利要求1的方法来实现。根据本专利技术的方法是一种用于校正由光学检测器检测到的主(primary)测量信号的方法。该方法包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于校正由光学检测器(6)检测到的主测量信号(p)的方法，其中，所述方法包括至少以下步骤：/n-提供具有光源(2)、有源传感器层(4)、光学检测器(6)和控制单元(7)的光学测量装置(1)，其中，所述控制单元(7)被连接到所述光源(2)和所述光学检测器(6)，/n-从所述光源(2)向所述有源传感器层(4)发射第一光信号(3)，使得所述有源传感器层(4)被激励并向所述光学检测器(6)发射第二光信号(5)，/n-借助于所述光学检测器(6)检测由所述有源传感器层(4)发射的所述第二光信号(5)，/n-借助所述控制单元(7)，基于所述第一光信号(3)和所述第二光信号(5)或者基于所述第一光信号...

【技术特征摘要】
20190607 DE 102019115603.31.一种用于校正由光学检测器(6)检测到的主测量信号(p)的方法，其中，所述方法包括至少以下步骤：
-提供具有光源(2)、有源传感器层(4)、光学检测器(6)和控制单元(7)的光学测量装置(1)，其中，所述控制单元(7)被连接到所述光源(2)和所述光学检测器(6)，
-从所述光源(2)向所述有源传感器层(4)发射第一光信号(3)，使得所述有源传感器层(4)被激励并向所述光学检测器(6)发射第二光信号(5)，
-借助于所述光学检测器(6)检测由所述有源传感器层(4)发射的所述第二光信号(5)，
-借助所述控制单元(7)，基于所述第一光信号(3)和所述第二光信号(5)或者基于所述第一光信号(3)，来确定主测量参数的所述主测量信号(P)，
-借助于所述控制单元(7)，基于所述第一光信号(3)或所述第二光信号(5)，来确定与所述主测量参数不同的次测量参数的次测量信号(S1、S2)，
-借助于所述控制单元(7)将所确定的次测量信号(S1、S2)与第一极限值(G1)进行比较，
-如果所述次测量信号(S1、S2)超过所述第一极限值(G1)，则借助于所述控制单元(7)来校正所述主测量信号(P)，
其中，校正所述主测量信号(P)包括对所述主测量信号(P)进行滤波，使得所述主测量信号(P)被平滑。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述主测量参数是所述第一光信号(3)和所述第二光信号(5)之间的相位角。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述次测量信号是所述第二光信号(5)的强度信号(S1)。


4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述次测量信号是用于产生所发射的第一光信号(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：赫尔曼·京特，罗尼·迈克尔，斯特凡·保罗，
申请(专利权)人：恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE