光纤的处理方法技术

光纤的处理方法包括：开始将光纤暴露在含有重氢的气体环境中的处理的开始步骤、监视相对于具有１７１４ｎｍ或其附近波长的传播光的所述光纤的损耗值，在所述损耗值的变化量超过规定范围时，使所述暴露结束的结束步骤。损耗值的监视，例如，将光纤暴露在含有重氢的气体环境中，且从光纤的一端，入射具有１７１４ｎｍ或者接近其波长的传播光，监视从所述光纤的另一端出射的传播光，并测量损耗值。这样，可以切实地以低成本制造出抗氢性能优良的光纤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。更详细而言，本专利技术涉及使作为光信号 的传送媒体而使用的光纤的抗氢特性提高的处理的方法。另外，关于承认借由文献的参照而编入的指定国家，通过参照如下所示 专利申请的说明书中记载的内容以加入本申请案中，作为本专利技术的一部分。专利申请2005-182468号 申请日2005年6月22曰
技术介绍
在光纤中，起因于光纤的0H基的吸收损耗的峰值(以下称为"WP")存在 于波长1383nm的频带。因此，在将光纤当做传送媒体的光通信中，1400nm 附近的频带波长不被作为信号波长使用。但是，作为CWDM等的通信技术， 涉及开发喇曼(Raman)放大等技术，要求WP非常小的光纤。众所周知，在光纤曝露在含氢环境中的时候将增加WP。也就是在光纤 里面往往包含Si (E'中心)、Si-0 (非交联氧保持中心，NBOHC) 、 Si-O-O .(peroxyl radical)等不少的构造缺陷。与其中的NBOHC扩散的氢结合， 形成OH基被认为是氢造成WP增加的机构(mechanism)。当考虑到被敷设的 光纤要持续长期使用，则不仅要求初期性能，而且要求在被暴露于含氢环 境中暴晒本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤的处理方法，其特征在于包括；开始将光纤暴露在含有重氢的气体环境中的处理的开始步骤、监视相对于具有１７１４ｎｍ或其附近波长的传播光的所述光纤的损耗值，在所述损耗值的变化量超过规定值时，使所述暴露结束的结束步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上大，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]