【技术实现步骤摘要】
位置检测装置
本专利技术涉及一种使用了磁传感器的位置检测装置。
技术介绍
近年来，使用了磁传感器的位置检测装置在各种用途中被利用。在下文中，将使用磁传感器的位置检测装置称为磁式的位置检测装置。磁式的位置检测装置，例如，在内置于智能手机的具备光学抖动校正机构或自动对焦机构的相机模块中，为了检测透镜的位置而使用。磁式的位置检测装置，例如，具备连动于对象物的移动而移动的磁铁和检测该磁铁所产生的磁场的磁传感器。作为磁传感器，已知有使用设置于基板上的自旋阀型磁阻效应元件的磁传感器。自旋阀型磁阻效应元件具有：具有方向固定的磁化的磁化固定层；具有方向根据施加磁场的方向能够变化的磁化的自由层；以及配置于磁化固定层与自由层之间的间隙层。设置于基板上的自旋阀型磁阻效应元件通常以具有相对于平行于基板的面的方向的磁场具有灵敏度的方式构成。因此，这样的磁阻效应元件适合于检测方向在与基板的面平行的平面内变化的磁场。在磁式的位置检测装置中，有通过设置于基板上的磁阻效应元件来检测包含垂直于基板的面的方向的分量的磁场而构成的位置检测装置。在中...
【技术保护点】
1.一种位置检测装置，其特征在于，/n是具备产生检测对象磁场的磁场产生器和磁传感器的位置检测装置，/n所述磁传感器检测所述检测对象磁场，并且生成对应于相对于所述磁传感器的所述磁场产生器的相对的位置的检测值，/n所述检测对象磁场在第一平面内的基准位置上具有第一方向，/n所述磁场产生器和所述磁传感器以当相对于所述磁传感器的所述磁场产生器的相对的位置发生变化时，所述第一方向在所述第一平面内在规定的可变范围内变化的方式构成，/n所述磁传感器包含至少一个磁阻效应元件，/n所述至少一个磁阻效应元件的各个包含具有在对应于其的第二平面内能够变化的方向的第一磁化的第一磁性层，/n所述第一平面...
【技术特征摘要】
20190605 JP 2019-1050751.一种位置检测装置，其特征在于，
是具备产生检测对象磁场的磁场产生器和磁传感器的位置检测装置，
所述磁传感器检测所述检测对象磁场，并且生成对应于相对于所述磁传感器的所述磁场产生器的相对的位置的检测值，
所述检测对象磁场在第一平面内的基准位置上具有第一方向，
所述磁场产生器和所述磁传感器以当相对于所述磁传感器的所述磁场产生器的相对的位置发生变化时，所述第一方向在所述第一平面内在规定的可变范围内变化的方式构成，
所述磁传感器包含至少一个磁阻效应元件，
所述至少一个磁阻效应元件的各个包含具有在对应于其的第二平面内能够变化的方向的第一磁化的第一磁性层，
所述第一平面和所述第二平面形成为90°以外的二面角而交叉，
所述至少一个磁阻效应元件的各个所受到的所述检测对象磁场能够分为平行于所述第二平面的面内分量和垂直于所述第二平面的垂直分量，
所述面内分量具有对应于所述第一方向的变化而变化的第二方向，
所述第一磁化的方向对应于所述第二方向的变化而变化，
所述检测值依赖于所述第一磁化的方向。
2.根据权利要求1所述的位置检测装置，其特征在于，
所述第一磁性层具有如下特性：当所述第一方向在所述可变范围内的至少一部分的范围内时，通过所述检测对象磁场，所述第一磁化成为饱和状态。
3.根据权利要求1所述的位置检测装置，其特征在于，
所述至少一个磁阻效应元件的各个还包含具有平行于所述第二平面的方向的第二磁化的第二磁性层和配置于所述第一磁性层与所述第二磁性层之间的间隙层。
4.根据权利要求1所述的位置检测装置，其特征在于，
所述二面角在30°～84°的范围内。
5.根据权利要求1所述的位置检测装置，其特征在于，
所述磁传感器还包含支撑所述至少一个磁阻效应元件的基板，
所述基板包含垂直于所述第一平面的主面以及相对于所述主面倾斜的至少一个倾斜面，
所述至少一个磁阻效应元件配置于所述至少一个倾斜面，
对应于所述至少一个磁阻效应元件的各个的所述第二平面平行于配置有所述至少一个磁阻效应元件的各个的倾斜面。
6.根据权利要求5所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：内田圭祐，蔡永福，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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