光波导路径的制造方法技术

本发明专利技术的目的是提供一种对准标记的目测或者光学检测容易的光波导路径的制造方法。在衬底（１）上制造光波导路径时，在衬底上同时用同一材料形成下包层（２）和对准标记（Ａ），其后，在衬底上形成核（３）形成用的感光性树脂层（３ａ）以便覆盖其金属薄膜（Ｂ），把可通过该感光性树脂层（３ａ）检测到的金属薄膜（Ｂ）作为目标，对核（３）形成用的曝光掩模（Ｍ↓［２］）进行定位。

【技术实现步骤摘要】

poi本专利技术涉;sje4t信、光信息处理、^fe^^学中广泛使用的光波导 i^f圣的制造矛法。
技术介绍
0002i光波导^fHa^fe光波导i^封殳备、光絲电路、颜己^t底等光学 设备中，在光通信、光信息处理、M-tot学领域中广泛i^皮使用。光波导 路径，通常以规定的图形形成作为光的逸珞的核，形成下^ir和上包层以^a盖该核(例如参照专利文献l (特开2005~173039号公报))。在制itil样的光 波导路径时，通常在衬底上以下包层、核、上^g"这样的顺序叠层形成。0003在M些下包层、核以;5LL^形^定的图形时，通常作为VH^ ^M^frf吏用感光性树脂，在形成该图形时，定位形成与该图形对应的开口图形的曝iU^模，通过该曝iy^辆射线曝光。然后，把i该 ^光后的部分，经4曝光部分的溶)^除工序，形^L^的图形。同一材#^成下^和对;^科己的步骤；在上i^)fbf科己上形成 金属薄膜的步骤；形成具有it^性的第一感光性树脂层以便^Ji述下包层以 ^Lhii^r属薄膜的步骤；4e^上^)jl^ieJi形成的金属薄膜作为目标定位曝 ^y^模的步骤；和通过该曝ife^模，选##^曝紅錄一感光1*#脂层中下 M上的^^部分，通itJi錄一感光IW"脂层的曝光部賴錄的步骤。其结果，在比较例l中，对准才朽己的目测是困难的。因此，核形^JU 的曝^r^膜的定位以及上包层形成用的曝it^r膜的定位比上述实施例1费时 间。权利要求1.，其特征在于包括在衬底上使用同一材料形成下包层和对准标记的步骤；在上述对准标记上形成金属薄膜的步骤；形成具有透光性的第一感光性树脂层以便覆盖上述下包层以及上述金属薄膜的步骤；把在上述对准标记上形成的金属薄膜作为目标定位曝光掩模的步骤；和通过该曝光掩模，选择性地曝光上述第一感光性树脂层中下包层上的规定部分，通过上述第一感光性树脂层的曝光部分形成核的步骤。2. 才N^权利要求l所述的光波导i^圣的制妙法，絲棘于还包拾 在形成上迷核后，形成具有i^it性的第二感光4沐脂层以便在上迷衬底上M上述下^、上述金属薄膜和上述核的步骤；4e^上述下&J:上形成的金属薄膜作为目标对上包层形成用的曝i^"模进 4亍^M立的步骤；和通i4Ji牡^g:形成用曝iy^模，选棒^她曝^h述第^i光4谢脂层中下&Jr上的败部分，^Jl述第4光'l^^脂层的曝光部，成为上^的步骤。3. 才l^权利要求1或2所述的光波导5^圣的制ii^r法，其中，所述金属薄 翻 跳 ，4. ##权利要求1 ~3中4封可一项所述的光波导5^圣的制紗法，其中，第 一感光魁对脂层的厚度为20 nm以上。5. 才Nt权利要求1 ~4中^f可一项所述的光波导i^圣的制妙法，其中，第 二感光幽对脂层的厚度为20 nm以上。6. 才財居权利要求1 ~5中任何一项所述的，其中，在 光波导5^圣内^^L件。全文摘要本专利技术的目的是提供一种对准标记的目测或者光学检测容易的。在衬底(1)上制造光波导路径时，在衬底上同时用同一材料形成下包层(2)和对准标记(A)，其后，在衬底上形成核(3)形成用的感光性树脂层(3a)以便覆盖其金属薄膜(B)，把可通过该感光性树脂层(3a)检测到的金属薄膜(B)作为目标，对核(3)形成用的曝光掩模(M₂)进行定位。文档编号G02B6/13GK101369036SQ200810168679公开日2009年2月18日 申请日期2008年6月6日 优先权日2007年6月7日专利技术者S·R·卡安 申请人:日东电工株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
光波导路径的制造方法，其特征在于包括：　在衬底上使用同一材料形成下包层和对准标记的步骤；　在上述对准标记上形成金属薄膜的步骤；　形成具有透光性的第一感光性树脂层以便覆盖上述下包层以及上述金属薄膜的步骤；　把在上述对准标记上形成的金属薄膜作为目标定位曝光掩模的步骤；和　通过该曝光掩模，选择性地曝光上述第一感光性树脂层中下包层上的规定部分，通过上述第一感光性树脂层的曝光部分形成核的步骤。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：SR卡安，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]