【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】药液的异常检测装置、液处理装置、基片处理装置、药液的异常检测方法、液处理方法和基片处理方法
本专利技术涉及对供给到被处理体来进行处理的药液的异常进行检测的技术。
技术介绍
在半导体器件的制造工序中，形成抗蚀膜、抗蚀膜的下层膜、位于下层膜与抗蚀膜之间的中间的膜(中间层)等各种的膜。抗蚀膜通过将作为药液的抗蚀剂供给到作为基片的晶片而形成，下层膜和中间层有时也通过药液的供给而形成。各药液作为其主成分含有规定浓度的聚合物。此外，在药液中有可能包含本来不包含的杂质，已知有光学地检测这样的杂质的方法，例如专利文献1、2公开了该方法。另外，上述的抗蚀膜通过曝光和显影而形成图案，但是关于该图案，存在产生会在应除去抗蚀剂的部位残留抗蚀剂的被称为桥或半桥的缺陷的情况。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭62-285042号公报。专利文献2：WO/2017/126360号公报。
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题本专利技术是鉴于上述的情况而完成的，其目的在于提...
【技术保护点】
1.一种药液的异常检测装置，其特征在于，包括：/n含有聚合物的药液所流动的药液流路；/n对所述药液流路照射激光的激光照射部；/n接收从所述药液流路供给来的光的受光元件；和/n检测部，其基于从所述受光元件输出的信号，检测所述药液所含的聚合物中的过半数存在的聚合物的状态异常，或者检测所述药液流路中的含有该聚合物的药液与其他药液的比例。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180418 JP 2018-080209;20180910 JP 2018-1690071.一种药液的异常检测装置，其特征在于，包括：
含有聚合物的药液所流动的药液流路；
对所述药液流路照射激光的激光照射部；
接收从所述药液流路供给来的光的受光元件；和
检测部，其基于从所述受光元件输出的信号，检测所述药液所含的聚合物中的过半数存在的聚合物的状态异常，或者检测所述药液流路中的含有该聚合物的药液与其他药液的比例。
2.如权利要求1所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述检测部检测所述聚合物的状态异常，
所述过半数存在的聚合物是在观察该聚合物的光学粒径时包含中央值的范围内所含的聚合物。
3.如权利要求1所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述聚合物的状态异常的检测包括所述药液中的聚合物的浓度的异常或者聚合物的光学粒径的异常的检测。
4.如权利要求3所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述聚合物的状态异常的检测包括所述药液中的聚合物的浓度的异常，基于对该药液中的聚合物的浓度与所述聚合物的光学粒径的相关所设定的数据，来检测所述异常。
5.如权利要求1所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
设置有分析处理部，其基于根据所述受光元件所输出的信号得到的信号强度的时序数据，来对所述异常进行分析处理，
所述检测部基于该分析处理后的数据来检测所述聚合物的状态异常。
6.如权利要求5所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述分析处理部由被输入所述时序数据的自编码器、循环神经网络或者LSTM构成。
7.如权利要求5所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述分析处理部对所述信号强度的时序数据进行傅里叶变换。
8.如权利要求1所述的药液的异常检测装置，其特征在于：
所述检测部检测所述药液流路中的含有该聚合物的药液与其他药液的比例，
所述异常检测装置设置有分析处理部，其基于根据所述受光元件所输出的信号得到的信号强度的时序数据，对所述比例进行分析处理。
9.一种液处理装置，其特征在于，包括：
对所述药液流路供给所述药液并且贮存该药液的贮存部；
与所述药液流路的下游侧连接，将所述药液供给到作为所述被处理体的基片的喷嘴；
载置所述基片的载置部；和
权利要求1所述的药液的异常检测装置。
10.如权利要求9所述的液处理装置，其特征在于：
包括在通过所述检测部检测出聚合物的状态异常时进行应对的应对机构。
11.如权利要求10所述的液处理装置，其特征在于：
包括分支路，其在所述药液流路中从被照射所述激光的光照射区域的下游侧分支，用于对与所述喷嘴不同的流路供给药液，
所述应对机构由切换部构成，所述切换部将在检测出所述聚合物的状态异常时通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：林圣人，森拓也，志手英男，坂本浩一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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