竞技用义足的足底制造技术

一种竞技用义足的足底，该竞技用义足具有板簧状的足部，该足部经由至少1个弯曲部向足尖侧延伸，该足底安装于从所述足尖向所述弯曲部侧呈弧状延伸的着地区域，该竞技用义足的足底的特征在于，该足底具有与所述着地区域的延伸形状匹配的形状的底面，该底面的、以穿过穿着有所述竞技用义足的穿着者的直立状态下该底面与路面接触的接触点且沿足部宽度方向延伸的线为分界的弯曲部侧区域具有比所述弯曲部侧区域以外的区域高的排水性能。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】竞技用义足的足底
本专利技术涉及一种在竞技用义足的着地区域安装的足底，特别涉及一种抑制竞技中的义足滑动的竞技用义足的足底。
技术介绍
以往，已知一种竞技用的义足(以下，也称作竞技用义足或简称作义足)，其具有经由弯曲部向足尖侧延伸的板簧状的足部，着地区域从足尖向弯曲部侧呈弧状延伸。在具有这样的板簧状的足部的竞技用义足的着地区域的底面，通常安装有与路面抵接的足底。例如，在专利文献1中，例示了安装于弯曲的板簧状的竞技用义足的下表面的与慢跑、赛跑等竞技项目对应的足底。即，在专利文献1中，记载了在与路面接触的足底的下表面安装有钉的足底、设有多个外足底部的足底，该多个外足底部分别具有六边形的着地面。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016－150189号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在专利文献1所例示的足底中，丝毫没有考虑到抑制义足滑动、即防滑性。例如，在降雨时等进行竞技的情况下，要在湿润的路面上跑动。此时，当在路面上存在水膜时，水膜会介于足底的底面与路面之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种竞技用义足的足底，该竞技用义足具有板簧状的足部，该足部经由至少1个弯曲部向足尖侧延伸，该足底安装于从所述足尖向所述弯曲部侧呈弧状延伸的着地区域，该竞技用义足的足底的特征在于，/n该足底具有与所述着地区域的延伸形状匹配的形状的底面，该底面的、以穿过穿着有所述竞技用义足的穿着者的直立状态下该底面与路面接触的接触点且沿所述足部的宽度方向延伸的线为分界的弯曲部侧区域具有比所述弯曲部侧区域以外的区域高的排水性能。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180417 JP 2018-079458;20180724 JP 2018-1388101.一种竞技用义足的足底，该竞技用义足具有板簧状的足部，该足部经由至少1个弯曲部向足尖侧延伸，该足底安装于从所述足尖向所述弯曲部侧呈弧状延伸的着地区域，该竞技用义足的足底的特征在于，
该足底具有与所述着地区域的延伸形状匹配的形状的底面，该底面的、以穿过穿着有所述竞技用义足的穿着者的直立状态下该底面与路面接触的接触点且沿所述足部的宽度方向延伸的线为分界的弯曲部侧区域具有比所述弯曲部侧区域以外的区域高的排水性能。


2.根据权利要求1所述的竞技用义足的足底，其中，
所述底面的除所述弯曲部侧区域以外的区域具有比所述弯曲部侧区域高的耐磨损性能。


3.根据权利要求1或2所述的竞技用义足的足底，其中，
在所述底面的除所述弯曲部侧区域以外的区域中，从所述足尖起以恒定的曲率半径连续的部分具有比余下的部分高的耐磨损性能。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的竞技用义足的足底，其中，
在所述底面的所述弯曲部侧区域中，比该区域在所述足部的前后方向上的最大长度的中心靠足尖侧的部分具有比余下的部分高的排水性能。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：糸井大太，佐桥耕平，
申请(专利权)人：株式会社普利司通，
类型：发明
国别省市：日本;JP