用于在基板装载模块中支撑基板载体的设备、基板载体以及基板装载模块制造技术

描述了一种用于在基板装载模块中支撑基板载体的设备(100)。所述设备包括载体锁定机构(140)，所述载体锁定机构被配置为在所述基板载体的一侧接合所述基板载体(210)，所述载体锁定机构包括主体(145)和接合所述载体的所述一侧的可移动的紧固装置(142)。

【技术实现步骤摘要】
用于在基板装载模块中支撑基板载体的设备、基板载体以及基板装载模块
本公开内容总体涉及基板处理，诸如大面积基板处理。特别地，本公开内容涉及基板处理，其中基板载体将用于材料沉积或层沉积的基板运输通过沉积系统。此外，本公开内容涉及用于支撑基板载体的设备、基板载体以及用于支撑基板载体的方法。
技术介绍
用于在基板上进行层沉积的技术包括例如溅射沉积、热蒸发和化学气相沉积。溅射沉积工艺可以用于在基板上沉积材料层，诸如导电材料或绝缘材料层。涂覆材料可以用于若干应用和若干
例如，一个应用在于微电子领域，诸如用于产生半导体器件。而且，用于显示器的基板通常通过物理气相沉积(PVD)(例如，溅射沉积工艺)或化学气相沉积(CVD)涂覆。另外的应用包括绝缘面板、具有TFT的基板、滤色器或类似物。基板处理系统或沉积系统可以包括大气部分，例如清洁室、基板装载模块或类似者，以用于在基板载体上装载基板及从基板载体卸载基板。虽然载体增加了被导引通过系统的设备并可能具有一些缺点，但是载体具有可减少玻璃破裂的优点，特别是当考虑到基板具有高达几平方米的基板面积和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于在基板装载模块中支撑基板载体的设备(100)，其特征在于包括：/n载体锁定机构(140)，所述载体锁定机构被配置为在所述基板载体的一侧接合所述基板载体(210)，所述载体锁定机构包括：/n主体(145)；以及/n可移动的紧固装置(142)，所述可移动的紧固装置接合所述基板载体的所述一侧。/n

【技术特征摘要】
20200305 EP 20161277.71.用于在基板装载模块中支撑基板载体的设备(100)，其特征在于包括：
载体锁定机构(140)，所述载体锁定机构被配置为在所述基板载体的一侧接合所述基板载体(210)，所述载体锁定机构包括：
主体(145)；以及
可移动的紧固装置(142)，所述可移动的紧固装置接合所述基板载体的所述一侧。


2.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述载体锁定机构的所述主体(145)相对于所述基板装载模块的壁(105)固定地布置。


3.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述可移动的紧固装置(142)被配置为通过所述可移动的紧固装置的选自由以下项组成的组中的移动与所述基板载体的所述一侧接合：旋转移动和平移移动。


4.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体(210)的设备(100)，其特征在于，所述可移动的紧固装置(142)包括可移动的活塞。


5.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体(210)的设备(100)，其特征在于，所述可移动的紧固装置(142)包括可移动的T形活塞。


6.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述可移动的紧固装置(142)包括第一磁性装置，所述第一磁性装置被配置为朝向所述基板载体的所述一侧建立选自由以下项组成的组中的力：吸引力和排斥力。


7.根据权利要求1所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述载体锁定机构(140)包括一个或多个反作用力装置(144)，所述一个或多个反作用力装置被配置为将所述基板载体夹持在所述可移动的紧固装置(142)与所述一个或多个反作用力装置之间。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述载体锁定机构(140)包括致动器(150)，所述致动器用于移动选自由以下项组成的组中的装置：所述可移动的紧固装置(142)和所述一个或多个反作用力装置(144)。


9.根据权利要求7所述的用于支撑基板载体的设备(100)，其特征在于，所述一个或多个反作用力装置(144)选自由以下项组成的组：活塞和中空管或以上项的组合。


10.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：莱内尔·欣特舒斯特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国;US