一种磁场发生装置及可施加磁场的透射电子显微镜样品杆制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种磁场发生装置，所述的磁场发生装置上设有磁场发生端面，所述的磁场发生端面的厚度为100纳米至280微米，所述的厚度为平行于电子束方向的尺寸；此结构的磁场发生装置能产生0T‑1.5T的稳定匀强磁场。及一种可施加磁场的透射电子显微镜样品杆，包括杆身及杆头，所述的杆头设于所述的杆身的一端，所述的杆头设有上所述的磁场发生装置；该透射电子显微镜样品杆的磁场发生装置把能够产生的磁场的最大值提高到1.5T，并且这个磁场能够施加在电镜样品上同时使样品高质量成像。

【技术实现步骤摘要】
一种磁场发生装置及可施加磁场的透射电子显微镜样品杆
本专利技术涉及一种透射电子显微镜配件
，更确切地说涉及一种可施加磁场的透射电子显微镜样品杆。
技术介绍
透射电子显微镜(TEM)在材料科学领域是十分重要的分析和表征手段，随着球差矫正技术的应用，其分辨率也从纳米级提升到皮米级，可以清楚观察材料原子级别的微观结构。由于科学研究的需求，近些年来电子显微镜原位观测技术日渐兴起，其特点为可以实时原位观察电镜样品在温度、电、磁、力、光等外加物理场作用下的微观结构和微观性能的变化，有助于在物理学和材料科学中发现新颖的现象、理解材料的宏观性能的微观机理。近年来世界上出现了很多制作原位透射电镜样品杆的高科技公司，开发了控制样品温度、调节电场、磁场、对样品施加应力、引入激光等多种功能，这些原位技术应用于物理和材料研究上取得了丰硕的研究成果，同时解决了材料应用中的很多问题，使得原位电子显微技术蓬勃发展。电磁学性质是材料和器件的重要性质，通过原位加磁场实验表征磁场下电输运特性的变化、磁相变以及磁性材料的磁畴翻转和磁畴壁位移过程，可以丰富人们对电磁性质的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生装置上设有磁场发生端面，所述的磁场发生端面的厚度为100纳米至280微米，所述的厚度为平行于电子束方向的尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生装置上设有磁场发生端面，所述的磁场发生端面的厚度为100纳米至280微米，所述的厚度为平行于电子束方向的尺寸。


2.根据权利要求1所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生装置设有气隙，所述的磁场发生装置形成所述的气隙的相对的两端面均为所述的磁场发生端面；所述的气隙的宽度为50纳米至50微米，所述的宽度为垂直于电子束方向的尺寸。


3.根据权利要求2所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生端面的厚度为20微米，所述的气隙的宽度为3微米。


4.根据权利要求2所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生装置包括软磁材料铁芯及线圈，所述的线圈绕在所述的软磁材料铁芯上，所述的软磁材料铁芯上设有所述的气隙。


5.根据权利要求4所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的软磁材料铁芯为“回”字形结构，所述的气隙开设在所述的软磁材料铁芯的一边上，所述的线圈缠绕在所述的软磁材料铁芯气隙所在边之外的边上。


6.根据权利要求5所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的软磁材料铁芯的上下两侧均设有非磁性支撑片，所述的非磁性支撑片也为“回”字形结构，所述的非磁性支撑片与所述的气隙相对应的位置处设有狭缝，所述的狭缝的宽度大于所述的气隙的宽度，所述的软磁材料铁芯的两端部分别露置在所述的非磁性支撑片的两端部外；所述的线圈缠绕在铁芯上下两侧的所述的非磁性支撑片外。


7.根据权利要求5所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的软磁材料铁芯的两个端部的端面的部分凸伸分别形成凸起，所述的气隙设于两个所述的凸起之间。


8.根据权利要求4所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的软磁材料铁芯对称地设有两个，两个所述的软磁材料铁芯外均缠绕有所述的线圈；两个所述的软磁材料铁芯的端部的端面之间形成所述的气隙。


9.根据权利要求2所述的磁场发生装置，其特征在于：所述的磁场发生装置包括两个超导体线圈，两个所述的超导体...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏卫星，焦如波，贺爱娜，王明坤，肖尧，张健，
申请(专利权)人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：浙江;33