一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统技术方案

本发明专利技术公开了一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统，该光栅由上至下由顶层Ta

【技术实现步骤摘要】
一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统
本专利技术涉及反射式衍射光栅
，具体涉及一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统。
技术介绍
随着先进制造技术的发展，关键集成电路和系统的特征尺寸正迅速接近纳米尺度，这促进了纳米级精密位移测量的发展。基于二维反射式光栅的多维光栅尺位移测量系统的原理是以光栅的光栅周期作为位移量的测量基础，高精度光栅尺在非真空环境下的测量分辨率与目前常用的激光干涉仪相当，达到纳米量级，同时光栅尺的测量过程中的实际光程小，所以对环境的抗干扰能力、重复定位精度和长期稳定性均优于激光干涉仪。因此，基于二维反射式光栅的多维光栅尺位移测量系统在许多领域都具有研究前景和实用意义。由于二维光栅在x、y两个方向上都具有周期性，因此相比一维光栅，二维光栅更适合用于多轴位移测量。此外，与一维光栅相比，二维光栅的优点是消除了阿贝误差，提高了精度。在高精度测量的情况下，要求二维光栅具有偏振无关特性和高衍射效率。在进行数值处理时，较差的偏振无关特性会降低调制深度和信号对比度。另一方面，衍射效率低会导致不必要的噪声的引入，导致信号解析的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二维孔洞阵列光栅，其特征在于，包括：自上而下排列的介质光栅层(1)，介质缓冲层(2)，金属层(3)和基底层(4)；所述介质光栅层(1)为二维结构，所述介质光栅层(1)为规则等距排布的圆柱体孔洞或圆台孔洞结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种二维孔洞阵列光栅，其特征在于，包括：自上而下排列的介质光栅层(1)，介质缓冲层(2)，金属层(3)和基底层(4)；所述介质光栅层(1)为二维结构，所述介质光栅层(1)为规则等距排布的圆柱体孔洞或圆台孔洞结构。


2.根据权利要求1所述的二维孔洞阵列光栅，其特征在于，介质光栅层(1)的材料为Ta2O5；介质缓冲层(2)的材料为石英；金属层(3)的材料为Ag；基底层(4)材料为Zerodur玻璃。


3.根据权利要求1所述的二维孔洞阵列光栅，其特征在于，二维孔洞阵列光栅的工作中心波长为777-781纳米。


4.根据权利要求1所述的二维孔洞阵列光栅，其特征在于，二维孔洞阵列光栅的光栅周期为833纳米，对应栅线密度为1200线每毫米。


5.根据权利要求1所述的二维孔洞阵列光栅，其特征在于，二维孔洞阵列光栅的工作中心波长光束入射方位角为0°，工作中心波长光束入射极角为26.3°-29.3°。


6.根据权利要求5所述的二维孔洞阵列光栅，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：周斌，贾伟，孙鹏，王津，刘炜程，周常河，
申请(专利权)人：暨南大学，
类型：发明
国别省市：广东;44