一种测量工业水池水位的设备及方法技术

本发明专利技术公开一种测量工业水池水位的设备及方法，属于水位测量领域。针对现有水位测量误差大且成本高的问题，本发明专利技术提供一种测量工业水池水位的设备，它包括设置在水池内的主水位管和次水位管，主水位管远离水池底部的一端设置有浮塞，浮塞底部设置有正极，主水位管底部设置有负极；次水位管顶部设置有正极，底部设置有负极，两水位管均分别与导线串联成两个独立的电回路，电回路上设置有测量电阻的装置。本发明专利技术通过两个电回路的电阻值比值乘以次水位管的水柱高度直接计算出主水位管的水柱高度，最终得主水位管水位即水池水位，消除了其它变量对水池水位测量的影响，有效保证水位测量的精准度。该测量方法操作简单，无需复杂的设备投入，节约成本。

【技术实现步骤摘要】
一种测量工业水池水位的设备及方法
本专利技术属于水位测量设备领域，更具体地说，涉及一种测量工业水池水位的设备及方法。
技术介绍
目前的工业水池水位监测，通常是采用水池绘制的液位线，经人工观测来判断水位。对于一些需要准确的掌握水池水位的生产工业水池则不适用，需要通过仪器对水位进行测量。比如压力变送器，通过将水的压力转化为水的高度，从而达到测量水位的目的。由于压力变送器并不是直接测量水位，而是通过压力换算成水位，在某些工况或是测量位置下，水的压力值会失真(例如工作状态下输水位管中)，导致测量的水位值也跟着失真，无法准确测量水位的准确值。雷达液位计，可以准确地测量水池水位，但设备对工作环境，和安装位置要求较高。设备容易损毁，且价格昂贵，维护费用较高，不适合在露天环境下的工业水池中使用。针对上述问题也进行了相应的改进，如中国专利申请号CN201610488198.1，公开日为2016年10月26日，该专利公开了一种水位测量装置，包括壳体、测控单元、电阻导轨和浮球；浮球通过滚轮与电阻导轨接触；电阻导轨为槽型结构，内嵌密闭腔体；密闭腔体为软性绝缘材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：包括设置在水池内的主水位管(10)和次水位管(5)，主水位管(10)通过连通支管(8)与水池连通，主水位管(10)远离水池底部的一端设置有浮塞(3)，浮塞(3)底部设置有正极(4)，主水位管(10)底部设置有负极(7)；次水位管(5)通过连通支管(8)与水池连通，次水位管(5)的顶部与底部均呈封闭状态，且顶部设置有正极(4)，底部设置有负极(7)，主水位管(10)和次水位管(5)均分别与导线串联成两个独立的电回路，电回路中设置有测量电回路阻抗的阻抗测量装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：包括设置在水池内的主水位管(10)和次水位管(5)，主水位管(10)通过连通支管(8)与水池连通，主水位管(10)远离水池底部的一端设置有浮塞(3)，浮塞(3)底部设置有正极(4)，主水位管(10)底部设置有负极(7)；次水位管(5)通过连通支管(8)与水池连通，次水位管(5)的顶部与底部均呈封闭状态，且顶部设置有正极(4)，底部设置有负极(7)，主水位管(10)和次水位管(5)均分别与导线串联成两个独立的电回路，电回路中设置有测量电回路阻抗的阻抗测量装置。


2.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：主水位管(10)所在的电回路中浮塞(3)的上方位置还设置有盘线器(2)，用于补偿浮塞(3)在主水位管(10)内移动时导线的移动距离，盘线器(2)中的导线与浮塞(3)中的正极(4)连接。


3.根据权利要求2所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：所述盘线器(2)包括上部和下部，上部为导线存储空间，下部为用于承受上部重力的浮块(22)。


4.根据权利要求3所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：导线存储空间呈锥形状。


5.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：两个电回路中均设置有报警装置，报警装置与阻抗测量装置电连接。


6.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的...

【专利技术属性】
技术研发人员：佘文文，费书文，朱兴华，侯玉伟，李洪，王海鹏，周庆子，
申请(专利权)人：马钢集团设计研究院有限责任公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34