弯曲芳香族化合物及其制备方法技术

技术编号:26583610 阅读:27 留言:0更新日期:2020-12-04 21:02
本发明专利技术提供在有机溶剂中显示出翘曲纳米石墨烯优异的溶解性,并且具有相同堆积结构的新型化合物及其制备方法。经发现,由以下通式(1)表示的WNG68化合物在有机溶剂中显示出比翘曲纳米石墨烯优异的溶解性并且具有荧光。式中,R彼此独立地相同或不同,为选自由卤素原子、硝基、氰基、三氟甲基、羟基、硫醇基、氨基、二苯氨基、咔唑基、碳数为1~20的直链状或支链状的烷基、烷基氨基以及烷氧基组成的组中的取代基,n分别彼此独立地为0~3的整数,

【技术实现步骤摘要】
弯曲芳香族化合物及其制备方法
本专利技术涉及弯曲芳香族化合物及其制备方法。
技术介绍
碳纳米材料是由具有纳米尺寸结构的碳组成的物质的总称,到目前为止,已经发现和研究了富勒烯(球形),碳纳米管(圆柱形)和石墨烯(片状)。由于这些化合物具有优于硅及金属等的常规材料的电气特性及物理性能,因此它们有望用作下一代电子设备的材料。然而,例如,纳米石墨烯容易在有机溶剂中聚集,并且其低溶解度一直是个问题。为了解决该问题,伊丹等人开发了由C80H30表示的翘曲纳米石墨烯(WNG80)(非专利文献1)。由于WNG80具有弯曲结构,因此与平面状石墨烯相比,它在有机溶剂中的溶解性极佳,并且还具有与等平面片状石墨烯不同的特性,所述等平面片状石墨烯可以反复吸收和释放电子并发出绿色荧光。因此,可以期望将其应用于生物成像及有机半导体材料等。作为赋予该WNG80新功能的方法,可以导入取代基或合成具有相似结构的化合物。到目前为止,已经开发了在其中导入了水溶性取代基的水溶性衍生物,并且该化合物可以用作基质辅助激光解吸质谱分析用基质或荧光染料(专利文献1和非专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种WNG68化合物,其特征在于,由以下通式(1)表示,/n

【技术特征摘要】
20190603 JP 2019-1038771.一种WNG68化合物,其特征在于,由以下通式(1)表示,



式中,
R彼此独立地相同或不同,为选自由卤素原子、硝基、氰基、三氟甲基、羟基、硫醇基、氨基、二苯氨基、咔唑基、碳数为1~20的直链状或支链状的烷基、烷基氨基以及烷氧基组成的组中的取代基,
n分别彼此独立地为0~3的整数。


2.一种化合物,其特征在于,由以下通式(2)表示,



式中,X为卤素原子。


3.一种化合物,其特征在于,由以下通式(3)表示,



式中,
R彼此独立地相同或不同,为选自由卤素原子、硝基、氰基、三氟甲基、羟基、硫醇基、氨基、二苯氨基、咔唑基、碳数为1~20的直链状或支链状的烷基、烷基氨基以及烷氧基组成的组中的取代基,
n分别彼此独立地为0~3的整数,
X为卤素原子。


4.一种卤代WNG68化合物,其特征在于,由以下通式(4)表示,



式中,
R彼此独立地相同或不同,为选自由卤素原子、硝基、氰基、三氟甲基、羟基、硫醇基、氨基、二苯氨基、咔唑基、碳数为1~20的直链状或支链状的烷基、烷基氨基以及烷氧基组成的组中的取代基,
n分别彼此独立地为0~3的整数,
X为卤素原子。


5.一种权利要求1所述的化合物的制备方法,其特征在于,通过权利要求4所述的化合物的X基的去除反应来制备。


6....

【专利技术属性】
技术研发人员:伊丹健一郎瀬川泰知加藤健太川田拓马畠山泰斗
申请(专利权)人:国立大学法人东海国立大学机构关东化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1