检测X-射线的方法及X-射线检测装置制造方法及图纸

精确地检测Ｘ－射线的装置和方法使用了光电二极管基板，其中向光电二极管施加第一反向电压，以根据入射到光电二极管上的Ｘ－射线产生光电探测电压。在响应当前帧中施加于光电二极管的Ｘ－射线输出图像信号之后，向光电二极管施加正向偏置，从而在下一帧中可以更加精确的检测Ｘ－射线。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及X-射线的检测，尤其涉及使用在薄膜晶体管(TFT) 基板上形成的光电二极管来检测X-射线。
技术介绍
X-射线具有可以轻易地穿透物体的短波长，X-射线的穿透量取决 于物体的密度。因此，通过X-射线的穿透量可以间接地观察物体的内 部。X-射线检测装置可以包括用于检测X-射线穿透量的多个光电二极 管。当X-射线入射到反向偏置的光电二极管上时，二极管产生与X-射 线穿透相对应的光电探测电压。光电探测电压被转换成图像信号，并 且将图像应用到显示设备，从而显示设备显示物体内部的状态。光电二极管可以包括能够捕获电荷的陷阱空间。通过能够捕获电 子或空穴的悬空键(dangling bond)可以形成陷阱空间。当X-射线进 入光电二极管时，电荷被捕获在陷阱空间中。在陷阱空间所捕获的电荷数量与入射到光电二极管上的X-射线 的数量相对应。因此，当入射进入光电二极管的X-射线的数量增加时， 捕获电荷的数量也增加。当入射进入光电二极管的X-射线的数量减少 时，捕获电荷的数量也减少。从陷阱空间释放捕获电荷花费相当多的时间，从而在前帧中所捕 获的捕获电荷的一部分可能在当前帧中留在陷阱空间中。因此，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测Ｘ－射线的方法，包括：　向光电二极管施加第一反向偏置；　使用由Ｘ－射线产生的光电探测电压，输出与施加于光电二极管的Ｘ－射线的数量相对应的图像信号；以及　向光电二极管施加正向偏置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：郑宽旭，秋大镐，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]