一种陶瓷施釉设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部，所述回转部包括N组工位，所述N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部和一组上釉部，每组工位包括两组相对运动的夹持板，两组夹持板的对应位置分别转动设置转轴，所述转轴轴向与两组夹持板的相对运动方向一致，所述换料部包括沿回转部径向水平运动的滑块，所述滑块上方设置能够竖直升降的升降板，所述升降板上方固定设置定位块，当滑块滑动至工位下方时，所述定位块处于该工位的转轴正下方，本陶瓷施釉设备采用回转的工作台，将上料、浸泡和下料分为三个工位，提升加工速度，且在浸泡时，工件处于旋转的状态，有助于回转类工件表面附着均匀，提升表面质量。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷施釉设备
本技术涉及陶瓷上釉设备
，具体为一种陶瓷施釉设备。
技术介绍
陶瓷生产过程中，需要对陶瓷表面进行上釉，以提升表面质量和美观度，现有的上釉多采用浸泡或喷淋式，其中以浸泡式为多，现有的浸泡上釉设备，多数采用单人负责单组设备，依次完成上料、浸泡和下料作业，使浸泡上釉效率降低，且对于回转类型的工件，在浸泡上釉时，会存在表面附着不均匀的问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种陶瓷施釉设备，采用回转的工作台，将上料、浸泡和下料分为三个工位，提升加工速度，且在浸泡时，工件处于旋转的状态，有助于回转类工件表面附着均匀，提升表面质量，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部，所述回转部包括N组工位，所述N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部和一组上釉部，每组工位包括两组相对运动的夹持板，两组夹持板的对应位置分别转动设置转轴，所述转轴轴向与两组夹持板的相对运动方向一致，所述换料部包括沿回转部径向水平运动的滑块，所述滑块上方设置能够竖直升降的升降板，所述升降板上方固定设置定位块，当滑块滑动至工位下方时，所述定位块处于该工位的转轴正下方，所述上釉部包括能够竖直升降的浆料槽，所述浆料槽处于其中一组工位的转轴正下方。作为本技术的一种优选技术方案，所述夹持板的运动方向与回转部的回转切线一致，所述夹持板与回转部之间沿相对运动方向布置第一伸缩杆，所述回转部还包括沿回转切向相对固定设置的滑杆，所述夹持板与滑杆滑动安装；通过第一伸缩杆长度的变化，实现两组夹持板的相对运动，从而改变对应的转轴之间的轴端距离，完成对工件的夹持和释放，且通过在转轴的端部设置顶尖，有助于提升工件的旋转时的同轴度，同时，设置滑杆，有助于提升夹持板运动的使轨迹稳定，起到引导滑动的作用。作为本技术的一种优选技术方案，每组工位内转动设置传动轴和电机，所述传动轴与该组工位内转轴轴线平行，所述传动轴和电机之间设置减速机构，所述传动轴为花键轴，所述传动轴的花键轴部分沿轴向滑动安装花键套筒，所述花键套筒与夹持板转动安装，所述花键套筒与转轴之间设置有链条或皮带传动机构；通过电机进行驱动传动轴转动，通过花键轴与花键套筒的配合使用，使夹持板在相对运动时，不影响动力的传输，随后通过链条或皮带传动机构带动转轴转动，从而带动工件的旋转，在使用时，可以平行布置多组转轴，以完成多组工件的同步上釉。作为本技术的一种优选技术方案，所述换料部还包括与地基固定的机架，所述滑块与机架水平滑动安装，所述滑块与机架之间沿滑动方向布置第二伸缩杆，所述升降板与滑块之间竖直设置第三伸缩杆；通过第三伸缩杆带动升降板上下运动，使工件在进行上下料时与转轴具有较高的同轴度，且在完成上下料后，降至低位，在第二伸缩杆的作用下，带动滑块和升降板沿径向滑动，从而避免回转部对升降板上方的操作造成干涉。作为本技术的一种优选技术方案，所述浆料槽与地基之间设置竖直的第四伸缩杆；通过第四伸缩杆带动浆料槽的上升和下降，当带有工件的工位旋转至上釉部上方时，浆料槽上升，使工件能够浸泡在浆料槽的浆料内部，且在此过程中，工件持续旋转，从而使工件表面完成全部的浸泡，且表面粘附浆料均匀。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本陶瓷施釉设备采用回转工作台的方式，在不同工位进行上料、浸泡和下料的作业，通过分步加工的方式，提升加工效率，且在浸泡时，工件始终处于选装的状态，有助于回转类工件表面粘附浆料均匀，提升上釉质量。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术俯视图；图3为本技术单组工位示意图；图4为本技术A处剖视图；图5为本技术B处剖视图；图6为本技术C处剖视图。图中：1回转部、101夹持板、102第一伸缩杆、103传动轴、104电机、105转轴、106花键套筒、2换料部、201滑块、202升降板、203第二伸缩杆、204第三伸缩杆、205定位块、3上釉部、301浆料槽、302第四伸缩杆。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-6，本技术提供一种技术方案：一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部1，回转部1包括N组工位，N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部2和一组上釉部3，每组工位包括两组相对运动的夹持板101，两组夹持板101的对应位置分别转动设置转轴105，转轴105轴向与两组夹持板101的相对运动方向一致，换料部2包括沿回转部1径向水平运动的滑块201，滑块201上方设置能够竖直升降的升降板202，升降板202上方固定设置定位块205，当滑块201滑动至工位下方时，定位块205处于该工位的转轴105正下方，上釉部3包括能够竖直升降的浆料槽301，浆料槽301处于其中一组工位的转轴105正下方。夹持板101的运动方向与回转部1的回转切线一致，夹持板101与回转部1之间沿相对运动方向布置第一伸缩杆102，回转部1还包括沿回转切向相对固定设置的滑杆，夹持板101与滑杆滑动安装；通过第一伸缩杆102长度的变化，实现两组夹持板101的相对运动，从而改变对应的转轴105之间的轴端距离，完成对工件的夹持和释放，且通过在转轴105的端部设置顶尖，有助于提升工件的旋转时的同轴度，同时，设置滑杆，有助于提升夹持板101运动的使轨迹稳定，起到引导滑动的作用。每组工位内转动设置传动轴103和电机104，传动轴103与该组工位内转轴105轴线平行，传动轴103和电机104之间设置减速机构，传动轴103为花键轴，传动轴103的花键轴部分沿轴向滑动安装花键套筒106，花键套筒106与夹持板101转动安装，花键套筒106与转轴105之间设置有链条或皮带传动机构；通过电机104进行驱动传动轴103转动，通过花键轴与花键套筒106的配合使用，使夹持板101在相对运动时，不影响动力的传输，随后通过链条或皮带传动机构带动转轴105转动，从而带动工件的旋转，在使用时，可以平行布置多组转轴105，以完成多组工件的同步上釉。换料部2还包括与地基固定的机架，滑块201与机架水平滑动安装，滑块201与机架之间沿滑动方向布置第二伸缩杆203，升降板202与滑块201之间竖直设置第三伸缩杆204；通过第三伸缩杆204带动升降板202上下运动，使工件在进行上下料时与转轴105具有较高的同轴度，且在完成上下料后，降至低位，在第二伸缩杆203的作用下，带动滑块201和升降板202沿径向滑动，从而避免回转部1对升降板202上方的操作造成干涉。浆料槽301与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部（1），其特征在于：所述回转部（1）包括N组工位，所述N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部（2）和一组上釉部（3），每组工位包括两组相对运动的夹持板（101），两组夹持板（101）的对应位置分别转动设置转轴（105），所述转轴（105）轴向与两组夹持板（101）的相对运动方向一致，所述换料部（2）包括沿回转部（1）径向水平运动的滑块（201），所述滑块（201）上方设置能够竖直升降的升降板（202），所述升降板（202）上方固定设置定位块（205），当滑块（201）滑动至工位下方时，所述定位块（205）处于该工位的转轴（105）正下方，所述上釉部（3）包括能够竖直升降的浆料槽（301），所述浆料槽（301）处于其中一组工位的转轴（105）正下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部（1），其特征在于：所述回转部（1）包括N组工位，所述N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部（2）和一组上釉部（3），每组工位包括两组相对运动的夹持板（101），两组夹持板（101）的对应位置分别转动设置转轴（105），所述转轴（105）轴向与两组夹持板（101）的相对运动方向一致，所述换料部（2）包括沿回转部（1）径向水平运动的滑块（201），所述滑块（201）上方设置能够竖直升降的升降板（202），所述升降板（202）上方固定设置定位块（205），当滑块（201）滑动至工位下方时，所述定位块（205）处于该工位的转轴（105）正下方，所述上釉部（3）包括能够竖直升降的浆料槽（301），所述浆料槽（301）处于其中一组工位的转轴（105）正下方。


2.根据权利要求1所述的陶瓷施釉设备，其特征在于：所述夹持板（101）的运动方向与回转部（1）的回转切线一致，所述夹持板（101）与回转部（1）之间沿相对运动方向布置第一伸缩杆（102），所述回转部（1）还包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋建生，
申请(专利权)人：郑州利德技术陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41