一种视轴和光轴共轴的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种视轴和光轴共轴的装置，本发明专利技术利用光轴监控技术实现视轴和光轴保持实时共轴，抑制外部环境和自身结构导致的两轴偏差影响，减少繁琐的装调流程，提高使用效率，从而有效解决了现有技术中激光拦截设备不能保证共轴偏差在10urad以下的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种视轴和光轴共轴的装置
本专利技术涉及光学
，特别是涉及一种视轴和光轴共轴的装置。
技术介绍
随着高功率激光技术的发展，针对“低慢小”目标，激光拦截设备得到广泛的应用。典型的激光拦截设备普遍采取可见光视轴和强激光共光路的设计方法，为了实现对目标的远距离跟踪和目标局部精确烧毁，需要可见光视轴和激光光轴在进入共光路发射系统时保持一致。传统的设计方法是选用热膨胀系数小的材料和形变量小的机械结构保障传输光路共轴，然后通过光学系统装调，实现10urad以下的共光轴偏差来满足实际使用要求。但是实际使用过程中，外部环境变化、设备运输过程中产生的随机振动、强激光引起镜面热变形都可能对共轴光路产生影响，单纯依靠系统结构很难保障共轴偏差在10urad以下。
技术实现思路
本专利技术提供了一种视轴和光轴共轴的装置，以解决现有技术中激光拦截设备不能保证共轴偏差在10urad以下的问题。本专利技术提供了一种视轴和光轴共轴的装置，包括：可见光反射通路、激光反射通路和处理器；所述可见光反射通路，用于将探测到的目标的可见光反射给所述处理器；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种视轴和光轴共轴的装置，其特征在于，包括：可见光反射通路、激光反射通路和处理器；/n所述可见光反射通路，用于将探测到的目标的可见光反射给所述处理器；/n所述激光反射通路，用于将激光器发出的预设激光透射到所述目标，并将所述激光器发出的指示激光反射给所述处理器；/n所述处理器，用于根据所述激光反射通路反射来的指示激光确定所述预设激光的中心位置，并根据该中心位置调整所述可见光的视轴位置，以使所述预设激光的中心位置与所述可见光的视轴位置相重合。/n

【技术特征摘要】
1.一种视轴和光轴共轴的装置，其特征在于，包括：可见光反射通路、激光反射通路和处理器；
所述可见光反射通路，用于将探测到的目标的可见光反射给所述处理器；
所述激光反射通路，用于将激光器发出的预设激光透射到所述目标，并将所述激光器发出的指示激光反射给所述处理器；
所述处理器，用于根据所述激光反射通路反射来的指示激光确定所述预设激光的中心位置，并根据该中心位置调整所述可见光的视轴位置，以使所述预设激光的中心位置与所述可见光的视轴位置相重合。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述处理器进一步包括：第一处理模块和第二处理模块；
所述第一处理模块，用于根据所述第二反射镜反射来的指示激光确定所述预设激光的中心位置，并将确定的所述预设激光的中心位置发送给所述第二处理模块；
所述第二处理模块，用于根据所述第一处理模块发送来的预设激光的中心位置来调整所述可见光的视轴位置，以使所述预设激光的中心位置与所述可见光的视轴位置相重合。


3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二处理模块进一步包括：第二成像组件和第二数字信号处理DSP；
所述第二成像组件，用于将激光指示光光斑成像；
所述第二数字信号处理DSP，用于对所述第二成像组件的视频信号进行处理，实时检测所述激光的中心位置是否发生偏移，如果发生偏移，则将偏移量发送至所述第一处理模块。


4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第二成像组件进一步包括：第二成像单元和第二电荷耦合原件CCD；
所述第二成像单元，用于对激光指示光进行成像；
所述第二电荷耦合原...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘飞，王岳，李松山，张文海，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十一研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11