【技术实现步骤摘要】
间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统
本专利技术涉及化工
，具体涉及一种间歇反应釜温度自动控制方法、存储介质和系统。
技术介绍
近些年随着化工行业的发展，越来越多的高质量、多功能产品需求日益增加。间歇化工过程具有小批量、操作灵活等特点，广泛应用于各种高端、定制化的产品生产中，所生产的产品通常根据客户的需求具有不同的牌号。间歇反应釜用于间歇化工生产过程，PID控制器通过输出调节信号至间歇反应釜，调整间歇反应釜内的热源流量调节阀阀位或热源的温度，进而调整间歇反应釜内的温度，使间歇反应釜内的温度接近PID控制器的温度设定值，PID控制器参数涉及比例控制参数、积分控制参数和微分控制参数，各控制参数的变化，会影响输出的调节信号，进而影响间歇反应釜内的温度变化。现有技术中，PID控制器中各参数的参数值由操作人员设定，反应过程中，各参数值保持不变，在间歇反应釜内加入不同牌号产品时，需人为对PID控制器中各参数的参数值进行更新。人为设置参数和调整参数耗时长，对于操作人员的专业性要求较高，而且容易出现错误，因此，现有的间歇...
【技术保护点】
1.一种间歇反应釜温度自动控制方法，其特征在于，包括如下步骤：/n在采样时刻t获取间歇反应釜内的温度检测值v
【技术特征摘要】
1.一种间歇反应釜温度自动控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
在采样时刻t获取间歇反应釜内的温度检测值vt和PID控制器的温度设定值st，得到采样时刻t对应的偏差变化率Δet＝et-et-1，其中et为采样时刻t的温度偏差，et＝vt-st，et-1＝vt-1-st-1；t-1为与采样时刻t相邻的前一采样时刻；
在每一设定周期内，根据相邻两采样时刻的偏差变化率的关系确定间歇反应釜内的控制指标变化时长ti，以及，与控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei；
根据所述控制指标变化时长ti和与所述控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei得到所述设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′；
根据所述设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′更新所述设定周期内的PID控制器的比例控制参数值、积分控制参数值和微分控制参数值。
2.根据权利要求1所述的间歇反应釜温度自动控制方法，其特征在于，在每一设定周期内，根据相邻两采样时刻的偏差变化率的关系确定间歇反应釜内的控制指标变化时长ti，以及，与控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei的步骤包括：
获取每相邻两个采样时刻的偏差变化率乘积；
第一次出现相邻两个采样时刻的偏差变化率乘积小于零时，将后一采样时刻作为第一时刻；
第二次出现相邻两个采样时刻的偏差变化率乘积小于零时，将后一采样时刻作为第二时刻，所述第二时刻与所述第一时刻之间的间隔作为第一控制指标变化时长t1，所述第二时刻对应的温度偏差为e1，将所述第一控制指标变化时长t1内绝对值最大的偏差变化率作为与第一控制指标变化时长t1对应的第一偏差变化率Δe1；
第三次出现相邻两个采样时刻的偏差变化率乘积小于零时，将后一采样时刻作为第三时刻，所述第三时刻与所述第二时刻之间的间隔作为第二控制指标变化时长t2，所述第三时刻对应的温度偏差为e2，将所述第二控制指标变化时长t2内绝对值最大的偏差变化率作为与第二控制指标变化时长t2对应的第二偏差变化率Δe2；
第四次出现相邻两个采样时刻的偏差变化率乘积小于零时，将后一采样时刻作为第四时刻，所述第四时刻与所述第三时刻之间的间隔作为第三控制指标变化时长t3，所述第四时刻对应的温度偏差为e3，将所述第三控制指标变化时长t3内绝对值最大的偏差变化率作为与第三控制指标变化时长t3对应的第三偏差变化率Δe3。
3.根据权利要求2所述的间歇反应釜温度自动控制方法，其特征在于，根据所述控制指标变化时长ti和与所述控制指标变化时长ti对应的偏差变化率Δei得到所述设定周期内的温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏差变化率变化参数Δe′的步骤中，根据以下公式得到温度偏差变化参数e′、偏差时间变化参数t′和偏...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢大鹏，田宇，王远辉，董玉玺，张宏科，
申请(专利权)人：万华化学集团股份有限公司，万华化学宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37
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