光学测量装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的装置，所述装置包括用于光学距离测量的第一机构和用于光学距离测量的第二机构，所述第一机构设计用于测量第一基准平面和不透明层的第一表面之间的第一间距，所述第二机构设计用于测量第二基准平面和不透明层的第二表面之间的第二间距，其特征在于，用于光学距离测量的第二机构还设计用于测量第二基准平面和基板的表面之间的第三间距，其中根据第一间距和第二间距计算不透明层的厚度，其中对第三间距的测量用于计算基板的光学作用对第二间距的间距测量的影响。本发明专利技术还涉及一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的方法。

【技术实现步骤摘要】
光学测量装置及方法
本专利技术涉及一用于光学测量基板上的不透明层的厚度的装置。
技术介绍
对于不透明层，例如利用彩色共焦或干涉测量方法，借助两侧的间距测量进行的的厚度测量作为现有技术是已知的。这种装置例如从WO2012/139571A1中已知。在两侧进行测量的情况下，借助于两个测量头分别求出该层的表面相对于基准平面的间距值，并根据这两个间距值计算该层的厚度。如果不透明层位于基板上，则基板的折射特性影响通过基板执行的间距测量的测量值。这会导致厚度测量的失真。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是能够以足够的精度测量安置在透明基板上的不透明层的光学层厚度。在此，将不透明层理解为一种材料层，这种材料层无法实现借助用于光学测量的辐射(优选可见光或红外光谱中的光)获得背离辐射入射方向的边界面的(间距)测量值。在此，背离的边界面的测量由于辐射透射不足而不可行，或者例如在材料中出现散射，所述散射使测量失真。透明的基板相应地可理解为对于所使用的辐射很大程度透明的材料。关于测量装置，上述目的通过用于光学距离测量的第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的装置，所述装置包括：/n用于光学距离测量的第一机构(1)，所述第一机构设计用于测量第一基准平面和所述不透明层的第一表面(s1)之间的第一间距(a1)，和/n用于光学距离测量的第二机构(2)，所述第二机构设计用于测量第二基准平面和所述不透明层的第二表面(s2)之间的第二间距(a2)，/n其特征在于，/n用于光学距离测量的第二机构(2)还设计用于测量所述第二基准平面(E2)和所述基板的表面(s3)之间的第三间距(a3)，其中根据所述第一间距(a1)和所述第二间距(a2)计算所述不透明层的厚度，其中对所述第三间距(a3)的测量用于计算所述基板的光学作用对所...

【技术特征摘要】
20190527 DE 102019114167.21.一种用于光学测量基板上的不透明层的厚度的装置，所述装置包括：
用于光学距离测量的第一机构(1)，所述第一机构设计用于测量第一基准平面和所述不透明层的第一表面(s1)之间的第一间距(a1)，和
用于光学距离测量的第二机构(2)，所述第二机构设计用于测量第二基准平面和所述不透明层的第二表面(s2)之间的第二间距(a2)，
其特征在于，
用于光学距离测量的第二机构(2)还设计用于测量所述第二基准平面(E2)和所述基板的表面(s3)之间的第三间距(a3)，其中根据所述第一间距(a1)和所述第二间距(a2)计算所述不透明层的厚度，其中对所述第三间距(a3)的测量用于计算所述基板的光学作用对所述第二间距(a2)的距离测量的影响。


2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，用于光学距离测量的第一机构是彩色共焦测量仪器。


3.根据上述权利要求之一所述的装置，其特征在于，用于光学距离测量的所述第二机构是干涉测量仪器，尤其是傅里叶域干涉仪。


4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述干涉测量仪器包括具有不同光学路径长度的两个基准路线。


5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述干涉测量仪器包括具有...

【专利技术属性】
技术研发人员：菲利普·尼姆特施，西蒙·米特，
申请(专利权)人：普莱斯泰克光电子有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE