一种SnO框架、制备方法及其应用技术

本发明专利技术公开了一种SnO框架、制备方法及其应用，包括以二氯化锡为锡源，油胺为溶剂，在氨水中，通氮气条件下，采用溶剂热法制备，即得SnO框架；所述的二氯化锡的量为0.04～0.15g，所述的油胺与氨水的体积比为5：(0.5～1)。本发明专利技术制备方法简单，已操作，制备得到的SnO框架结构稳定，避免了样品合成之后难以存放的麻烦。对不同染料都有一定的催化降解效果，而且制备方法简便，可大规模合成，在污染治理方面有很大的应用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种SnO框架、制备方法及其应用
本专利技术属于半导体纳米材料制备领域，具体涉及到一种光催化SnO框架、制备方法及其应用。
技术介绍
当前社会中存在的环境污染问题已成为社会主要问题之一，而纳米材料在污染治理中扮演着重要角色。然而光催化效果明显的大都是贵金属纳米材料，成本高昂，所以我们迫切需要一种价格低，制备简单，且在日光下对染料降解效果好的材料。事实证明，半导体光催化是一种有效的绿色技术，可用于环境保护和能源管理，也因此半导体光催化技术受到了广泛的关注。传统的半导体，例如TiO2,SnO2和ZnO，由于其低成本，高稳定性和环境友好的特性，作为污染物降解的光催化材料被广泛研究。然而，这些传统的光催化剂由于其宽带隙能而只能被紫外光激发，这极大地限制了它们的实际应用。结果，开发有效的可见光响应性光催化剂已经成为光催化中的热门话题。研究表明，材料的性能和应用在很大程度上取决于材料设计，包括形态，粒度和比表面积。通常，光催化反应与污染物染料在光催化剂表面上的吸附密切相关，因此大的比表面积增加了活性位点并可以增强催化剂的光催化能力。因此，框架结构的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种SnO框架的制备方法，其特征在于，包括以二氯化锡为锡源，油胺为溶剂，在氨水中，通氮气条件下，采用溶剂热法制备，即得SnO框架；所述的二氯化锡的量为0.04～0.15g，所述的油胺与氨水的体积比为5：(0.5～1)。/n

【技术特征摘要】
1.一种SnO框架的制备方法，其特征在于，包括以二氯化锡为锡源，油胺为溶剂，在氨水中，通氮气条件下，采用溶剂热法制备，即得SnO框架；所述的二氯化锡的量为0.04～0.15g，所述的油胺与氨水的体积比为5：(0.5～1)。


2.根据权利要求1所述的SnO框架的制备方法，其特征在于，反应温度为110℃～130℃。


3.根据权利要求1所述的SnO框架的制备方法，其特征在于，包括将SnCl2、OLA和NH3·H2O混合，在N2环境下进行加热至110℃～130℃，所述的SnCl2的质量为0.02～0.04g，OLA与NH3·H2O的体积比为5:(0.8～1)。


4.根据权利要求1所述的SnO框架的制备方法，其特征在于，包括将SnCl2、OLA和NH3·...

【专利技术属性】
技术研发人员：王英楠，任倩倩，张信平，贾恺，赵武，闫军锋，张志勇，
申请(专利权)人：西北大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61