一种冷阱装置和具有其的真空提纯设备制造方法及图纸

技术编号:26491348 阅读:39 留言:0更新日期:2020-11-27 15:16
本实用新型专利技术提供了一种冷阱装置和具有其的真空提纯设备,其中冷阱装置包括外筒,内具有容纳腔;内筒,套接于所述容纳腔内,且所述内筒与所述外筒之间密封连接;所述内筒包括内具有冷液腔且外表面形成有至少一个旋片的内筒主体和固设在所述内筒主体顶部的与所述外筒顶部的第二连接法兰密封连接的第一连接法兰;所述旋片沿所述内筒主体的轴向方向延伸且径向向外弯曲延伸成弧状。此结构的冷阱装置,通过在内筒的外壁面设置轴向延伸且径向向外弯曲延伸的旋片,大大增加冷却表面积及颗粒碰撞的概率,极大提升阻尘及溶剂吸附效果,保证了高真空泵组正常运行所需的环境。

【技术实现步骤摘要】
一种冷阱装置和具有其的真空提纯设备
本技术属于材料纯化
,特别涉及一种有机小分子升华提纯设备,具体涉及一种冷阱装置和具有其的真空提纯设备。
技术介绍
现有的传统升华提纯设备冷阱装置是常规的圆筒型(图1和图2),冷阱装置是设置在材料升华端及泵组端之间的用于保护高真空提纯设备的泵组,避免在高真空升华提纯过程中材料及溶剂进入到抽气端泵组中导致泵组寿命缩短。传统的冷阱装置是圆筒竖直型的,包括相互套接的内筒和外筒,通过内筒法兰边及外筒法兰边压合密封,外筒侧壁上设有材料及溶剂气体进口和气体出口。内筒内部装有低温液体,这样使得提纯升华过程中部分材料及溶剂从材料及溶剂气体进口进入外筒内撞击内筒外壁进行冷却并碰撞沉积,达到冷阱的吸附溶剂及吸尘作用。该传统的冷阱装置存在以下不足:首先,材料在升华提纯过程中随着材料量的增加,碰撞及冷却吸附在内筒表面沉积的材料过多,使其冷却吸尘效果大大降低,材料溶剂进入泵组使其损坏;同时连续使用时必须很频繁的将冷阱内筒拿出进行清洗作业,不然冷却吸尘效果不行泵组亦会损坏,大大增加了繁琐度及危险性;为了让材料沉积有足本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冷阱装置,其特征在于,包括:/n外筒(20),内具有容纳腔;/n内筒(10),套接于所述容纳腔内,且所述内筒(10)与所述外筒(20)之间密封连接;/n所述内筒包括内具有冷液腔(14)且外表面形成有至少一个旋片(12)的内筒主体(11)和固设在所述内筒主体(11)顶部的与所述外筒(20)顶部的第二连接法兰(21)密封连接的第一连接法兰(13);/n所述旋片(12)沿所述内筒主体(11)的轴向方向延伸且径向向外弯曲延伸成弧状。/n

【技术特征摘要】
1.一种冷阱装置,其特征在于,包括:
外筒(20),内具有容纳腔;
内筒(10),套接于所述容纳腔内,且所述内筒(10)与所述外筒(20)之间密封连接;
所述内筒包括内具有冷液腔(14)且外表面形成有至少一个旋片(12)的内筒主体(11)和固设在所述内筒主体(11)顶部的与所述外筒(20)顶部的第二连接法兰(21)密封连接的第一连接法兰(13);
所述旋片(12)沿所述内筒主体(11)的轴向方向延伸且径向向外弯曲延伸成弧状。


2.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于,所述旋片(12)包括至少两个,至少两个所述旋片(12)沿所述内筒主体(11)的周向间隔布置,所有所述旋片(12)的长度均相等;和/或,
所述旋片(12)均由所述内筒主体(11)的一端延伸至另一端。


3.根据权利要求2所述的冷阱装置,其特征在于,所有所述旋片(12)的弯曲延伸方向一致。


4.根据权利要求1至3任一项所述的冷阱装置,其特征在于,所述旋片(12)包括六个,任意相邻两个所述旋片(12)之间的夹角为60°。


5.根据权利要求1所述的冷阱装置,其特征在于,所述旋片(12)包括至少两个,任一所述旋片(12)均包括由所述内筒主体(11)的外壁径向向外凸出弯曲延伸的旋片单元构成,两个所述旋片单元中与所述内筒主体(11)外壁固接的一端不共点且远离所述内筒主体(11)外壁的一端相接;两个所述旋片单元的内...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈志宽马丹汇
申请(专利权)人:宁波卢米蓝新材料有限公司
类型:新型
国别省市:浙江;33

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1