用于低压开关设备的电弧室制造技术

一种用于低压开关设备的电弧室10、20、30、40、50，其包括绝缘壳体1，该绝缘壳体1具有用于限定容纳有多个断弧板的内部空间的第一侧壁2和第二侧壁3、后壁4和前壁5，所述壳体的顶壁6具有用于从所述内部空间排出气体的排出口101，所述排出口101被顶盖7、37、47、57覆盖。用于低压开关设备的电弧室包括位于所述排出口101处的由开孔金属泡沫制成的过滤器11、21、31、41、51。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于低压开关设备的电弧室本专利技术涉及一种用于具有高中断功率的开关设备(特别是断路器、隔离开关或接触器)的电弧室，优选地用在低压电气系统中。本专利技术同样涉及一种包括所述电弧室的开关设备。众所周知，开关设备(诸如断路器、隔离开关、接触器、限位器，为简洁起见在下文中简称为开关)一般包括壳体和一个或多个电极，每个电极有与之相关联的至少一对触头，这些触头可以彼此耦合或解耦。已知技术的开关还包括控制装置，该控制装置导致所述触头对相对移动，使得它们可以采取至少一个第一耦合位置(电路闭合)和一个第二分离位置(电路断开)。如已知的，在低压开关的使用寿命期间，会发生使开关和网络暴露于特别大的应力的现象。这首先在要求开关承受(即使是在短时间内承受)大于额定值的电流时发生。因此，一般而言，在低压开关中，由开关在所述开关的由所谓去离子电弧室构成的特定部分中提供中断电流(无论是额定电流、过载电流还是短路电流)的关键功能。因此，一般而言，与开关的每个极相关联地有至少一个电弧室，即，特别适于促进电弧中断的空间的区域。电弧室可以是在开关的壳体中提供的简单区域，或者可以包括成形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，包括绝缘壳体(1)，所述绝缘壳体具有用于限定容纳有多个断弧板的内部空间的第一侧壁和第二侧壁(2，3)、后壁和前壁(4，5)，所述壳体(1)的顶壁(6)具有用于从所述内部空间排出气体的排出口(101)，所述排出口(101)被顶盖(7，37，47，57)覆盖，其特征在于由开孔金属泡沫制成的过滤器(11，21，31，41，51)位于所述排出口(101)处。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，包括绝缘壳体(1)，所述绝缘壳体具有用于限定容纳有多个断弧板的内部空间的第一侧壁和第二侧壁(2，3)、后壁和前壁(4，5)，所述壳体(1)的顶壁(6)具有用于从所述内部空间排出气体的排出口(101)，所述排出口(101)被顶盖(7，37，47，57)覆盖，其特征在于由开孔金属泡沫制成的过滤器(11，21，31，41，51)位于所述排出口(101)处。


2.如权利要求1所述的用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，其特征在于由开孔金属泡沫制成的所述过滤器(11，21，31，41，51)完全覆盖所述排出口(101)。


3.如权利要求1或2所述的用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，其特征在于所述过滤器(11，21，31，41，51)的所述开孔金属泡沫的孔隙度大于70％，优选地大于80％，更优选地大于85％。


4.如前述权利要求中的一项或多项所述的用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，其特征在于所述过滤器(11，21，31，41，51)的所述开孔金属泡沫的热导率低于15W·m-1·K-1，优选地低于12W·m-1·K-1，更优选地低于10W·m-1·K-1。


5.如前述权利要求中的一项或多项所述的用于低压开关设备的电弧室(10，20，30，40，50)，其特征在于所述过滤器(11，21，31，41，51)的所述开孔金属泡沫的抗拉强度大于5MPa，优选地大于10MPa，更优选地大于15MPa。

【专利技术属性】
技术研发人员：P·阿里盖蒂，A·安东尼亚齐，A·阿达米，D·托雷辛，F·阿格斯蒂尼，
申请(专利权)人：ABB股份公司，
类型：发明
国别省市：意大利;IT