光扩散阻挡膜制造技术

本申请涉及光扩散阻挡膜。所述膜是顺序地包括阻挡层、基础层和光扩散层的一体膜。所述膜可以防止水分渗透到装置例如有机发光元件中并且还向所述装置赋予光扩散功能。特别地，所述膜即使在辊对辊法之后也可以具有优异的水分阻挡特性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光扩散阻挡膜
相关申请的交叉引用本申请要求基于2018年4月17日提交的韩国专利申请第10-2018-0044337号和2019年4月17日提交的韩国专利申请第10-2019-0044610号的优先权权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
本申请涉及光扩散阻挡膜及其制造方法。具体地，本申请涉及同时包括阻挡层和光扩散层的一体膜以及使用辊对辊法制造其的方法。
技术介绍
包括有机发光材料或光源(例如背光单元)的装置具有在暴露于水分或氧时耐久性降低的问题。因此，可以将阻挡膜用于这样的装置以保护装置免受外部环境的影响。为了使从光源投射的光均匀地扩散，还需要光扩散片。当需要光扩散功能和阻挡特性二者时，可以考虑通过使用粘合剂将阻挡膜和光扩散片附接来使用阻挡膜和光扩散片。膜或片可以使用干法涂覆或湿法涂覆来生产。例如，当主要通过无机材料如金属来进行赋予膜的阻挡特性时，阻挡膜可以通过干法涂覆例如物理气相沉积法(PVD)或化学气相沉积法(CVD)来生产。然后，当主要通过有机/无机复合材料来进行赋予膜的阻挡特性时，阻挡膜可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光扩散阻挡膜，顺序地包括光扩散层、基础层和阻挡层，/n其中所述光扩散层的与面向所述基础层的一侧相反的一侧(S

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180417 KR 10-2018-00443371.一种光扩散阻挡膜，顺序地包括光扩散层、基础层和阻挡层，
其中所述光扩散层的与面向所述基础层的一侧相反的一侧(S1)具有表面粗糙度(Rt)在0.1μm至6μm的范围内的不平度。


2.根据权利要求1所述的光扩散阻挡膜，其中由以下方程式计算的水蒸气透过变化率满足30％或更小：
[方程式]
水蒸气透过变化率(％)＝{(B-A)/A}×100
其中，A为所述光扩散阻挡膜(F1)的水蒸气透过率；B为在向所述光扩散阻挡膜(F1)的所述阻挡层的表面上施加恒定载荷使得与另一光扩散阻挡膜(F2)的光扩散层的不平坦表面彼此相遇以堆叠这两个膜(F1、F2)并保持所述恒定载荷24小时之后测量的所述光扩散阻挡膜(F1)的另一水蒸气透过率；所述光扩散阻挡膜(F1、F2)具有相同的构造，并且所述水蒸气透过率(A、B)使用AQUATRAN2(MOCON)在38℃和100％相对湿度的条件下测量。


3.一种光扩散阻挡膜，顺序地包括光扩散层、基础层和阻挡层，
其中所述光扩散层的与面向所述基础层的一侧相反的一侧(S1)的表面粗糙度(Rt)为0.02μm或更大至小于0.1μm，并且所述光扩散层的具有所述表面粗糙度的一侧(S1)的薄层电阻为1010Ω/sq或更小。


4.根据权利要求3所述的光扩散阻挡膜，其中所述光扩散层包含抗静电剂。


5.根据权利要求3所述的光扩散阻挡膜，其中由以下方程式计算的水蒸气透过变化率满足30％或更小：
[方程式]
水蒸气透过变化率(％)＝{(B-A)/A}×100
其中，A为所述光扩散阻挡膜(F1)的水蒸气透过率；B为在向所述光扩散阻挡膜(F1)的所述阻挡层的表面上施加恒定载荷使得与另一光扩散阻挡膜(F2)的光扩散层的不平坦表面彼此相遇以堆叠这两个膜(F1、F2)并保持所述恒定载荷24小时之后测量的所述光扩散阻挡膜(F1)的另一水蒸气透过率；所述光扩散阻挡膜(F1、F2)具有相同的构造，并且所述水蒸气透过率(A、B)使用AQUATRAN2(MOCON)在38℃和100％相对湿度的条件下测量。


6.根据权利要求1或3所述的光扩散阻挡膜，其中所述阻挡层包括一个或更多个子阻挡层。


7.根据权利要求6所述的光扩散阻挡膜，其中所述子阻挡层的厚度在20nm至400nm的范围内。


8.根据权利要求1或3所述的光扩散阻挡膜，其中所述阻挡层或所述子阻挡层为聚硅氮烷层或所述聚硅氮烷层的固化层。


9.根据权利要求8所述的光扩散阻挡膜，其中所述聚硅氮烷具有以下式1的单元：
[式1]



在式1中，R1、R2和R3各自独立地为氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基酰胺基或烷氧基。


10.根据权利要求1或...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁喜俊，黄樯渊，朴宝拉，慎晟真，梁熙旺，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR