喷墨油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法技术

本发明专利技术提供一种喷墨油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法，所述喷墨油墨组合物含有水和包含具有阴离子基团的聚合物、光产酸剂及增敏剂的粒子，从作为1g粒子中的阴离子基团的毫摩尔数的阴离子基团值A中减去作为1g粒子中的光产酸剂的毫摩尔数的光产酸剂量G后的值为‑0.20以上且0.20以下，增敏剂为式(S1)～式(S3)表示的化合物中的至少一种。R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喷墨油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
本公开涉及一种喷墨油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法。
技术介绍
以往至今，已知有含有水和包含聚合物的粒子的喷墨油墨组合物。例如，专利文献1中公开有一种凝胶粒子，其作为分散性及发生了固化时的再分散性优异、且高敏感度固化并可得到膜强度优异的膜(例如，图像)的凝胶粒子，具有聚合性基团，具有包含选自氨酯键及脲键中的至少一种键的三维交联结构，并且内含有光聚合引发剂，进而，公开有含有该凝胶粒子和水的油墨组合物。另外，专利文献2中公开有一种水性油墨组合物，其作为具有良好的固着性和喷吐性的水性油墨组合物，包含a)水系介质、b)具有烯键式不饱和键的化合物、和c)包含水不溶性乙烯基聚合物及水不溶性光引发剂的含引发剂树脂粒子。另外，专利文献3公开有一种水性油墨，其作为油墨的保存稳定性、及图像的固着性优异的水性油墨，含有具有核和壳的树脂粒子及多价金属离子，且用于在pH相对较低的记录介质上记录图像，在该水性油墨中，构成核的树脂(C)中的来自具有阴离子性基团的烯键式不饱和单体的单元所占的比例(质本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷墨油墨组合物，其含有：/n水；和/n粒子，其包含具有阴离子基团的聚合物、光产酸剂及增敏剂，/n在将每1g所述粒子的阴离子基团的毫摩尔数设为粒子中阴离子值A、将每1g所述粒子的光产酸剂的毫摩尔数设为粒子中光产酸剂量G的情况下，从粒子中阴离子值A中减去粒子中光产酸剂量G后的值为-0.20以上且0.20以下，/n所述增敏剂为选自由下述式(S1)表示的化合物、下述式(S2)表示的化合物、及下述式(S3)表示的化合物组成的组中的至少一种，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180327 JP 2018-0607141.一种喷墨油墨组合物，其含有：
水；和
粒子，其包含具有阴离子基团的聚合物、光产酸剂及增敏剂，
在将每1g所述粒子的阴离子基团的毫摩尔数设为粒子中阴离子值A、将每1g所述粒子的光产酸剂的毫摩尔数设为粒子中光产酸剂量G的情况下，从粒子中阴离子值A中减去粒子中光产酸剂量G后的值为-0.20以上且0.20以下，
所述增敏剂为选自由下述式(S1)表示的化合物、下述式(S2)表示的化合物、及下述式(S3)表示的化合物组成的组中的至少一种，



式(S1)、式(S2)、及式(S3)中，R11、R12、R21、R33、及R34分别独立地表示卤素原子、烷基、芳基、羟基、氨基、烷基硫烷基、烷基氨基、烷氧基、烷氧基羰基、酰氧基、酰基、羧基、或磺基，n11、n12、n21、n33、及n34分别独立地表示0～4的整数；在n11为2～4的整数的情况下，多个R11可以相同，也可以不同，在n12为2～4的整数的情况下，多个R12可以相同，也可以不同，在n21为2～4的整数的情况下，多个R21可以相同，也可以不同，在n33为2～4的整数的情况下，多个R33可以相同，也可以不同，在n34为2～4的整数的情况下，多个R34可以相同，也可以不同；
式(S2)中，R22及R23分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、或羟基；
式(S3)中，R31及R32分别独立地表示烷基。


2.根据权利要求1所述的喷墨油墨组合物，其中，
所述阴离子基团为羧酸根合基。


3.根据权利要求1或权利要求2所述的喷墨油墨组合物，其中，
所述光产酸剂为选自由下述式(G1)表示的化合物及下述式(G2)表示的化合物组成的组中的至少一种，



式(G1)及式(G2)中，R41、R42、R51、R52、及R53分别独立地表示卤素原子、烷基、芳基、羟基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、或三氟甲基，n41、n42、n51、n52、及n53分别独立地表示0～5的整数；在n41为2～5的整数的情况下，多个R41可以相同，也可以不同，在n42为2～5的整数的情况下，多个R42可以相同，也可以不同，在n51为2～5的整数的情况下，多个R51可以相同，也可以不同，在n52为2～5的整数的情况下，多个R52可以相同，也可以不同，在n53为2～5的整数的情况下，多个R53可以相同，也可以不同；
式(G1)中的X-及式...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤宪晃，铃木昭太，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP