聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种可以形成薄膜的聚酰胺‑酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺‑酰亚胺树脂的聚酰胺‑酰亚胺清漆及聚酰胺‑酰亚胺薄膜，所述薄膜的机械特性、耐热性、及透明性优异，进而可以达成残留应力的降低。本发明专利技术涉及聚酰胺‑酰亚胺树脂、及包含该聚酰胺‑酰亚胺树脂的聚酰胺‑酰亚胺清漆及聚酰胺‑酰亚胺薄膜，所述聚酰胺‑酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A、源自二胺的结构单元B、及源自芳香族二羧酸二氯化物的结构单元C，结构单元A包含源自下述式(a‑1)所示化合物的结构单元(A‑1)、结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示化合物的结构单元(B‑1)、结构单元C包含源自下述式(c‑1)所示化合物的结构单元(C‑1)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜
本专利技术涉及聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺清漆及聚酰胺-酰亚胺薄膜。
技术介绍
通常，聚酰亚胺树脂具有优异的机械特性及耐热性，因此正对其在电气/电子部件等领域中的各种各样的利用进行研究。例如，以装置的轻量化、柔性化为目的，期望用塑料基板代替液晶显示器、OLED显示器等图像显示装置中使用的玻璃基板，并正对适合作为该塑料基板的聚酰亚胺薄膜进行研究。像这样的用途的聚酰亚胺薄膜需要高透明性。对涂布在玻璃支承体、硅晶圆上的清漆进行加热而形成聚酰亚胺薄膜时，聚酰亚胺薄膜中会生成残留应力。聚酰亚胺薄膜的残留应力大时，玻璃支承体、硅晶圆会发生翘曲的问题，因此聚酰亚胺薄膜也要求残留应力的降低。另一方面，正在进行要于作为聚酰亚胺薄膜的主材料的聚酰亚胺树脂中混合或共聚聚酰胺的尝试。专利文献1中，作为热、机械及光学特性优异的共聚聚酰胺-酰亚胺薄膜，公开了具有源自2,2’-双(三氟甲基)联苯胺的单元结构、源自4,4’-(六氟异亚丙基)二苯二甲酸酐的单元结构、源自3,3’,4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰胺-酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A、源自二胺的结构单元B、及源自芳香族二羧酸氯化物的结构单元C，/n结构单元A包含源自下述式(a-1)所示化合物的结构单元(A-1)，/n结构单元B包含源自下述式(b-1)所示化合物的结构单元(B-1)，/n结构单元C包含源自下述式(c-1)所示化合物的结构单元(C-1)，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180510 JP 2018-0915911.一种聚酰胺-酰亚胺树脂，其具有源自四羧酸二酐的结构单元A、源自二胺的结构单元B、及源自芳香族二羧酸氯化物的结构单元C，
结构单元A包含源自下述式(a-1)所示化合物的结构单元(A-1)，
结构单元B包含源自下述式(b-1)所示化合物的结构单元(B-1)，
结构单元C包含源自下述式(c-1)所示化合物的结构单元(C-1)，





2.根据权利要求1所述的聚酰胺-酰亚胺树脂，其中，
结构单元A及结构单元C的总计中的结构单元(A-1)的比率为10～90摩尔％，
结构单元A及结构单元C的总计中的结构单元(C-1)的比率为10～60摩尔％。


3.根据权利要求1或2所述的聚酰胺-酰亚...

【专利技术属性】
技术研发人员：安孙子洋平，关口慎司，末永修也，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP