光波导制备方法技术

本发明专利技术公开一种光波导制备方法，其中，所述光波导制备方法包括以下步骤：提供一衬底；于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。本发明专利技术通过采用无机材料制成光栅层，形成目标光栅之后，可以使目标光栅具有更好的耐高温性能，不会出现长期使用后产生变色的问题；无机材料构成的目标光栅相对硬度较高，不需要单独设置用于保护目标光栅的结构，进而可以简化光波导的结构。

【技术实现步骤摘要】
光波导制备方法
本专利技术涉及增强现实
，特别涉及一种光波导制备方法。
技术介绍
现有的AR光波导制备方法主要是在玻璃衬底上涂覆纳米压印胶，再通过纳米压印的方式直接在纳米压印胶上形成光栅图案。由于光栅图形直接形成于纳米压印胶上，光栅的性能与纳米压印胶的性能一致，纳米压印胶通常为高分子材料制成，在受热或长期使用之后，会产生变黄的问题，影响光栅的视觉效果。由于纳米压印胶不耐高温高湿，在长期使用之后，有可能影响光栅的正常光学性能，进而直接影响光波导的光学性能。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提出一种光波导制备方法，旨在改善现有纳米压印胶上形成光栅存在的容易变黄、光学性能差的问题。为实现上述目的，本专利技术提出的光波导制备方法，所述光波导制备方法包括以下步骤：提供一衬底；于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光波导制备方法，其特征在于，所述光波导制备方法包括以下步骤：/n提供一衬底；/n于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；/n于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；/n保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。/n

【技术特征摘要】
1.一种光波导制备方法，其特征在于，所述光波导制备方法包括以下步骤：
提供一衬底；
于所述衬底上涂覆纳米压印胶，对所述纳米压印胶进行纳米压印，以形成光栅图形；
于所述光栅图形背向所述衬底的表面制作光栅层，所述光栅层为无机材料制成；
保留所述光栅图形的光栅凹槽内的光栅层，除去所述光栅图形的纳米压印胶以及纳米压印胶表面的光栅层，以使保留的光栅层形成目标光栅。


2.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，所述光栅层的折射率大于所述衬底的折射率。


3.如权利要求2所述的光波导制备方法，其特征在于，所述光栅层为透明金属氧化物制成。


4.如权利要求2所述的光波导制备方法，其特征在于，所述衬底的折射率大于或等于1.7。


5.如权利要求1所述的光波导制备方法，其特征在于，在执行所述于所述衬底上涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜凯凯，赵东峰，李琨，臧法珩，赵恩，程鑫，杨镇源，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37