基板处理系统技术方案

本发明专利技术提供一种基板处理系统。具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。根据本发明专利技术，能够进行最佳的检查，并能够抑制精度的偏差。

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统
本申请基于2015年5月12日在日本申请的特愿2015-097333号，要求优先权，在此引用其内容。本专利技术涉及检查基板的方法、基板处理系统和存储实行所述基板的检查方法的程序的可读取的计算机存储介质。
技术介绍
例如半导体器件的制造步骤的光刻步骤中，依次进行向作为基板的半导体晶片(以下，称为“晶片”)上涂敷抗蚀剂液来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理、将抗蚀剂膜以规定图案曝光的曝光处理、对曝光过的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等一系列的处理，并在晶片上形成规定的抗蚀剂图案。上述一系列的处理，在装载处理晶片的各种处理装置或搬送晶片的搬送机构等的作为基板处理系统的涂敷显影处理系统中进行。在上述的涂敷显影处理系统设置有对晶片进行所谓巨大缺陷的检查的检查装置(专利文献1)。在巨大缺陷检查中，在涂敷显影处理系统进行了规定的处理的晶片，在规定的照明下利用例如CCD线阵传感器等的拍摄装置进行拍摄，取得该晶片的拍摄图像。然后，与以取得的拍摄图像为基准的晶片的图像比较，据此判断是否有缺陷。现有技术文献r>专利文献本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理系统，其包括：盒工作站，其具有对于收纳有多个基板的盒进行基板的搬入搬出的搬送装置；和处理站，其具有对基板进行液处理的多个液处理装置，所述基板处理系统的特征在于，包括：/n检查装置，其与所述盒工作站相邻地设置，拍摄由所述液处理装置处理之前的基板和由所述液处理装置处理之后的基板；/n特征量抽取部，其从由所述液处理装置处理之前的基板的基板图像中抽取规定的特征量；/n存储有多个检查方案的存储部，其中，所述多个检查方案包含与各个不同范围的所述特征量对应地设定的、由所述检查装置进行拍摄时的拍摄条件；/n方案选择部，其从所述存储部所存储的所述检查方案中，选择包含与由所述特征量抽取部抽取出的特...

【技术特征摘要】
20150512 JP 2015-0973331.一种基板处理系统，其包括：盒工作站，其具有对于收纳有多个基板的盒进行基板的搬入搬出的搬送装置；和处理站，其具有对基板进行液处理的多个液处理装置，所述基板处理系统的特征在于，包括：
检查装置，其与所述盒工作站相邻地设置，拍摄由所述液处理装置处理之前的基板和由所述液处理装置处理之后的基板；
特征量抽取部，其从由所述液处理装置处理之前的基板的基板图像中抽取规定的特征量；
存储有多个检查方案的存储部，其中，所述多个检查方案包含与各个不同范围的所述特征量对应地设定的、由所述检查装置进行拍摄时的拍摄条件；
方案选择部，其从所述存储部所存储的所述检查方案中，选择包含与由所述特征量抽取部抽取出的特征量对应的所述拍摄条件的检查方案；和
缺陷判断部，其基于所选择的所述检查方案，获取与由所述液处理装置处理之前从所述基板图像中抽取了特征量的基板相同的、由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像，来判断由所述液处理装置处理之后的基板的基板图像中是否存在缺陷。


2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：
通过所述盒工作站的搬送装置，将由所述液处理装置处理之前的基板搬入所述检查装置，并将由所述液处理装置处理之后的基板从所述检查装置搬出。


3.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：
具有与曝光装置连接的接口站，由所述液处理装置处理之后的基板用所述曝光装置来进行曝光处理。


4.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：
在所述处理站设置有对基板进行热处理的热处理装置。


5.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：
在所述多个液处理装置中，对基板的表面供给涂敷...

【专利技术属性】
技术研发人员：森拓也，早川诚，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP