一种三维染料、三维染料制备方法及光阻混合物技术

本申请实施例提供一种三维染料、三维染料制备方法及光阻混合物，该三维染料通过在染料分子中加入三维结构的基团，构建了非平面的三维染料分子结构，有效的打破染料分子平面共轭结构彼此之间的强吸引作用力，防止染料分子聚集，达成染料分子在光阻液中形成单分子态，促进大环共轭染料分子在光阻液中离散，消除其对光通路上的影响，提升光阻液所制备彩色滤光片的光学性质与显色性能。

【技术实现步骤摘要】
一种三维染料、三维染料制备方法及光阻混合物
本申请涉及显示
，具体涉及一种三维染料、三维染料制备方法及光阻混合物。
技术介绍
彩色光刻胶色阻液中显色材料一般为染料分子，由于目前量产的染料结构多数为平面大环共轭分子材料，这种平面化的大共轭体系分子在分散过程中由于彼此之间作用力比较大，易聚集，影响光学性质与显色性能。
技术实现思路
本申请实施例提供一种三维染料分子、三维染料分子制程方法及光阻液混合物，通过构建非平面三维结构，有效的促进大环共轭染料分子在光阻液中离散，提升光阻液所制备彩色滤光片的光学性质与显色性能。本申请提供一种三维染料，包括：所述三维染料的结构式为Ra-Rb，其中，Ra基团的结构式为Rb基团的结构式为中的任一种；其中，M为Zn、Cu、Ni、Co或Fe中的任一种，R1基团、R2基团、R3基团以及R4基团为氢基、卤代基、酮基、醛基、羧基、烷基、磺酸盐基、硝酸盐基或醚键中的任一种。在一些实施例中，所述R4基团的结构式为中的任一种。本申请实施例提供一种三维染料制备方法，包括：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三维染料，其特征在于，所述三维染料的结构式为R

【技术特征摘要】
1.一种三维染料，其特征在于，所述三维染料的结构式为Ra-Rb，其中，Ra基团的结构式为Rb基团的结构式为中的任一种；
其中，M为Zn、Cu、Ni、Co或Fe中的任一种，R1基团、R2基团、R3基团以及R4基团为氢基、卤代基、酮基、醛基、羧基、烷基、磺酸盐基、硝酸盐基或醚键中的任一种。


2.根据权利要求1所述的三维染料，其特征在于，所述R4基团的结构式为中的任一种。


3.一种三维染料制备方法，其特征在于，包括：
提供第一反应物，所述第一反应物为包括Ra基团的化合物，所述Ra基团的结构式包括其中，R1基团、R2基团、R3基团为氢基、卤代基、酮基、醛基、羧基、烷基、磺酸盐基、硝酸盐基或醚键中的任一种，其中，M为Zn、Cu、Ni、Co或Fe中的任一种；
提供第二反应物，所述第二反应物为包括Rb基团的化合物，所述Rb基团的结构式包括中的任一种，其中，R4基团为氢基、卤代基、酮基、醛基、羧基、烷基、磺酸盐基、硝酸盐基或醚键中的任一种；
所述第一反应物与所述第二反应物进行反应生成三维染料，其中，三维染料的结构式Ra-Rb。


4.根据权利要求3所述的三维染料制备方法，其特征在于，在所述提供第一反应物的步骤中，还包括：
提供第一前驱物，所述第一前驱物进行反应得到第一反应物；
其中，所述第一前驱物的结构式为


5.根据权利要求4所述的三维染料制备方法，其特征在于，所述第一前驱物在第一溶剂中进行反应得到第一反应物，所述第一溶剂中具有第一添加物；其中，所述第一溶剂包括酯类溶剂、醚类溶剂、卤代烃类溶剂、醇类溶剂、酰胺类...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾琳，孟鸿，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44