一种光源系统和投影显示系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种光源系统和投影显示系统，包括激光器件、静态荧光器件以及位于所述激光器件和所述静态荧光器件之间的匀光器件；所述激光器件用于发射激光；所述静态荧光器件包括静态荧光体，所述静态荧光体在所述激光的激发下出射荧光；所述匀光器件用于对所述激光器件出射的激光进行匀光。通过匀光器件对所述激光器件出射的激光进行匀光，可以使所述激光均匀地照射到所述静态荧光体上，激发出均匀的荧光，即，使得荧光光斑中心亮度和边缘亮度相同或接近，有效解决了激光激发出的荧光中心亮度和边缘亮度不一致的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光源系统和投影显示系统
本技术涉及激光显示
，更具体地说，涉及一种光源系统和投影显示系统。
技术介绍
近年来，采用激光激发荧光的光源系统已经在投影、探照等领域广泛应用。但是，由于激光器出射的激光光斑是高斯分布的，因此，导致激光光斑中心的强度较高、边缘的强度较低，导致激光激发出的荧光光斑中心亮度较高、边缘亮度较低，进而导致荧光光斑的中心颜色和边缘颜色不一致，影响光源系统在照明和显示领域的应用。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种光源系统和投影显示系统，以解决激光激发出的荧光中心亮度和边缘亮度不一致的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种光源系统，包括激光器件、静态荧光器件以及位于所述激光器件和所述静态荧光器件之间的匀光器件；所述激光器件用于发射激光；所述静态荧光器件包括静态荧光体，所述静态荧光体在所述激光的激发下出射荧光；所述匀光器件用于对所述激光器件出射的激光进行匀光，以使所述激光均匀地照射到所述静态荧光体上，激发出均匀的荧光。可选地，所述静态荧光器件还本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光源系统，其特征在于，包括激光器件、静态荧光器件以及位于所述激光器件和所述静态荧光器件之间的匀光器件；/n所述激光器件用于发射激光；/n所述静态荧光器件包括静态荧光体，所述静态荧光体在所述激光的激发下出射荧光；/n所述匀光器件用于对所述激光器件出射的激光进行匀光，以使所述激光均匀地照射到所述静态荧光体上，激发出均匀的荧光。/n

【技术特征摘要】
1.一种光源系统，其特征在于，包括激光器件、静态荧光器件以及位于所述激光器件和所述静态荧光器件之间的匀光器件；
所述激光器件用于发射激光；
所述静态荧光器件包括静态荧光体，所述静态荧光体在所述激光的激发下出射荧光；
所述匀光器件用于对所述激光器件出射的激光进行匀光，以使所述激光均匀地照射到所述静态荧光体上，激发出均匀的荧光。


2.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，所述静态荧光器件还包括散热部件，所述静态荧光体设置在所述散热部件上。


3.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，所述静...

【专利技术属性】
技术研发人员：高文宏，刘灵芝，
申请(专利权)人：北京镭创高科光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11