基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，以抑制数据量并获得高吞吐量的方式设定在基板处理装置中能够搬送基板的搬送时间表。该基板处理装置构成为具备：多个单位块；主搬送机构，其设置于单位块的各搬送线路，相互独立地在多个模块间搬送基板；搬入搬出用搬送机构，其在保存基板的承载件与所述各单位块之间交接基板，从而向各单位块搬入搬出所述基板；存储器，其存储每个单位块的过去的基板的搬送历史的数据；以及设定部，当将主搬送机构绕搬送线路一周的时间设为循环时间时，基于基板的搬送历史的数据对每个单位块更新循环时间，并基于更新后的该循环时间来设定各单位块中的所述基板的搬送时间表。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法
本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
在半导体器件的制造工序中，对作为基板的半导体晶圆(以下，记载为晶圆)进行光刻(photolithography)。作为用于进行该光刻的基板处理装置，有时构成为由搬送机构向进行各不相同的处理的多个处理模块按照次序搬送晶圆。另外，有时设置多个相同的上述处理模块，以能够对相同基板组的晶圆并行地进行相同的处理。在专利文献1中，示出了一种涂布、显影装置，其具备多个单位块层叠而构成的处理块，并如上所述在各单位块中设置有对晶圆进行不同的处理的处理模块以及对晶圆进行相同的处理的处理模块。在各单位块中，各个处理模块中的处理时间除以进行相同处理的处理模块的数量而得到的值的最大值与基板搬送机构绕单位块一周的最短时间中的长的一方被设为基板搬送机构绕单位块一周的时间(循环时间)。基于该循环时间和处理模块所包括的加热模块的处理时间，来决定该加热模块中的晶圆的滞留循环数(基板搬送机构的环绕动作的次数)，从而设定各单位块中的晶圆的搬送时间表。现有技术文献专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：/n多个单位块，其分别具备多个模块和基板的搬送线路，在各单位块中从上游侧的模块向下游侧的模块按照顺序搬送所述基板并分别进行处理；/n主搬送机构，其设置于各个所述搬送线路，相互独立地在所述多个模块间搬送基板；/n搬入搬出用搬送机构，其在保存所述基板的承载件与各个所述单位块之间交接所述基板，从而向各个所述单位块搬入搬出所述基板；/n存储器，其存储每个所述单位块的过去的基板的搬送历史的数据；以及/n设定部，当将所述主搬送机构绕所述搬送线路一周的时间设为循环时间时，所述设定部基于所述基板的搬送历史的数据对每个单位块更新所述循环时间，并基于更新后的该循环时间来设定...

【技术特征摘要】
20190520 JP 2019-0946621.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
多个单位块，其分别具备多个模块和基板的搬送线路，在各单位块中从上游侧的模块向下游侧的模块按照顺序搬送所述基板并分别进行处理；
主搬送机构，其设置于各个所述搬送线路，相互独立地在所述多个模块间搬送基板；
搬入搬出用搬送机构，其在保存所述基板的承载件与各个所述单位块之间交接所述基板，从而向各个所述单位块搬入搬出所述基板；
存储器，其存储每个所述单位块的过去的基板的搬送历史的数据；以及
设定部，当将所述主搬送机构绕所述搬送线路一周的时间设为循环时间时，所述设定部基于所述基板的搬送历史的数据对每个单位块更新所述循环时间，并基于更新后的该循环时间来设定各单位块中的所述基板的搬送时间表。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板的搬送历史的数据是在所述单位块中进行了的每个处理的基板的搬送张数的数据，
所述设定部基于与在所述单位块中进行的各个处理相对应的用于计算循环时间的参数来计算所述循环时间。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
设置存储器，该存储器存储对所述多个单位块中的处理分别进行指定的搬送制程，
所述用于计算循环时间的参数是与所述搬送制程相对应的时间的参数。


4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述设定部基于每个所述处理的基板的搬送张数来选择与在一个所述单位块中进行的各个处理相对应的所述用于计算循环时间的参数中的一部分参数，基于选择出的该参数来更新所述循环时间。

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【专利技术属性】
技术研发人员：松山健一郎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP