【技术实现步骤摘要】
扩散陶瓷吸盘
本技术涉及一种真空吸盘设备领域，尤其涉及一种扩散陶瓷吸盘。
技术介绍
现有技术中，通过真空发生器产生真空对硅片进行吸附，对硅片的分离采用另一个装置实现，两种技术不能同时进行，浪费人力物力，降低了工作效率。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是提供一种扩散陶瓷吸盘，吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部，使得硅片的吸附和分离同时进行，达到了提高工作效率的效果。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种扩散陶瓷吸盘，包括吸盘和固定板，所述吸盘和固定板上都设置有固定孔，所述吸盘通过固定孔固定在固定板上，所述吸盘上设置有吸附腔体，所述吸附腔体上设置有真空孔，所述吸盘底部为凹槽结构，所述凹槽结构包括第一凹槽和第二凹槽，所述第二凹槽位于第一凹槽内，所述第一凹槽上设置有挡板，所述第一凹槽与真空孔相通形成真空管路，所述固定板与吸盘接触的一面上设置有分片管道。进一步的是：所述吸盘远离固定板一端具有硅片导向角。进一步的是：所述吸盘的材料可为陶瓷或PEEK。进一步的是：所述吸盘上设置的吸附腔体为多个。本技术的有益效果是：通过把吸附真空管路与硅片分离管路集成在一个整体内部，使得硅片的吸附和分离同时进行，达到了提高工作效率的效果。附图说明图1为扩散陶瓷吸盘正式图。图2为扩散陶瓷吸盘侧视图。图3为扩散陶瓷吸盘后视图。图4为扩散陶瓷吸盘俯视图。图中标记为：吸盘1、第一凹槽11、第二凹槽12、固定板2、分片管...
【技术保护点】
1.一种扩散陶瓷吸盘，包括吸盘(1)和固定板(2)，所述吸盘(1)和固定板(2)上都设置有固定孔(3)，所述吸盘(1)通过固定孔(3)固定在固定板(2)上，其特征在于：所述吸盘(1)上设置有吸附腔体(4)，所述吸附腔体(4)上设置有真空孔(5)，所述吸盘(1)底部为凹槽结构，所述凹槽结构包括第一凹槽(11)和第二凹槽(12)，所述第二凹槽(12)位于第一凹槽(11)内，所述第一凹槽(11)上设置有挡板(13)，所述第一凹槽(11)与真空孔(5)相通形成真空管路，所述固定板(2)与吸盘(1)接触一面上设置有分片管道(21)。/n
【技术特征摘要】
1.一种扩散陶瓷吸盘，包括吸盘(1)和固定板(2)，所述吸盘(1)和固定板(2)上都设置有固定孔(3)，所述吸盘(1)通过固定孔(3)固定在固定板(2)上，其特征在于：所述吸盘(1)上设置有吸附腔体(4)，所述吸附腔体(4)上设置有真空孔(5)，所述吸盘(1)底部为凹槽结构，所述凹槽结构包括第一凹槽(11)和第二凹槽(12)，所述第二凹槽(12)位于第一凹槽(11)内，所述第一凹槽(11)上设置有挡板(13)，所述第一凹槽(11)与真空孔...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈威，
申请(专利权)人：苏州诚拓机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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